用做衣服來比喻光刻機和刻蝕機。

1，做衣服首先要做個設計圖案樣本畫出來（晶片也一樣，要經過研發人員長時間的合理設計，做出設計畫）

2，然後再把設計好的圖樣畫到布料上，這時候畫不好，後面也就做不出你想要的衣服（在製造晶片過程中，這一步就是光刻機的作用，就是透過光刻機把設計好晶片的圖樣列印到指甲蓋上大小的晶片上，相當於把50多億個電晶體畫在指甲蓋大小的晶片上）。

3，刻蝕機（就是個裁剪過程，把不想要的部分去掉，剪掉。留下你要的部分，然後封裝，測試。

光刻機機和刻蝕機都是製造晶片流程中的高，精端科技，光刻機相對刻蝕機技術攻關更難，以至中國的光刻機技術比國外的技術差好幾代，前不久發生中興被制裁事件，現在相關技術己在全力攻關中。

國外的光核機已經可以對7奈米的晶片進行量產了，中國中國產的光核機可能生產90奈米左右的晶片，90奈米是指晶片上的線路間距。

高階光刻機被國外荷蘭公司阿斯麥所壟斷。刻蝕機技術中國與世界齊平。