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1 # 基礎知識關鍵點
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2 # 軍迷愛軍
光波長是可變的，假設某液體中光速只有真空中的1/10，那麼193nm的光波在該液體中波長也就變成19.3nm，將晶片浸潤在這樣的液體中進行刻蝕，就能刻出20nm、10nm、5nm等不同的線寬的晶片。而且線寬這個概念並不能完全代表晶片的先進性，intel就說自己的14nm晶片比三星臺積電的10nm工藝更先進，因為intel雖然線寬大點，但是柵極間距更小同樣面積能整合更多電晶體。
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3 # 流失很多想挽回難
因為那些晶片材料縮小了嗎，可以限制機器打上去的光也可以調製成嗎，實在不行用本身光打出去大是吧，可以用一個鏡子片，他是可以光越大透過鏡子片出打去的光越小的，實現了20奈米，是機器透過調動鏡子片的角度是光度縮小的就像放大鏡子在傾斜多少度，發出去的光縮小嗎實現了20奈米吧
193nm指的是極紫外線的波長，波長指的是最近兩個波峰之間距離為193nm奈米，要想把這個極紫外線光波描述清楚還有波峰、波谷，還有每秒30萬公里的光速。
20奈米是指半導體晶片上面的線寬，半導體晶片上面肯定要劃線吧！劃線要用光刻機，光刻機目前全世界最牛的是荷蘭，劃完線要用刻蝕機，也有叫蝕刻機的，刻蝕機再把劃的線雕刻出來，該刻洞的刻洞，該刻凸的刻突，然後估計就是連金線、銅線、封裝啊什麼的亂七八糟我也不知道的東西了。中國刻蝕機在2017年4月左右報道說中微半導體尹志堯世界最先進5奈米等離子刻蝕機17年底交貨，現在18年了我也沒搜尋到什麼訊息。