Pu材料，目前常用的超光滑表面加工方法，是由傳統的研磨拋光加工技術改進而來的，如浴法拋光、浮法拋光等，此類方法材料去除率低，也能夠達到亞奈米量級的表面粗糙度，但很難避免機械接觸式拋光對工件表面帶來的亞表面損傷和加工變質層。各種基於新原理的拋光方法逐漸被提出，如離子束拋光、等離子體輔助化學拋光、液體噴射拋光、磁流變拋光、化學機械拋光和彈性發射加工等。其中日本大阪大學學者發明的彈性發射加工方法利用工件材料與磨料之間發生固相反應實現原子級材料去除，被認為是獲得最高表面質量的加工方法，可以達到 RMS 0.1nm 的表面粗糙度，但其加工效率很低，並且裝置複雜，維護成本高。奈米顆粒射流拋光是借鑑了彈性發射加工的去除原理的一種超光滑表面加工方法，結合數控技術可以實現光學零件奈米級粗糙度、無表面損傷的精確拋光，但仍然存在拋光效率不高的問題。

光學元件的加工一般都需要三大基本步驟：銑磨、精磨和拋光，其中銑磨和拋光是最主要的兩道工序。拋光的目的是在去除表面破壞層的同時精修面形。現行的拋光理論認為拋光是三種作用的結果：磨料與工件之間的機械磨削、拋光液的化學作用和工件表面的熱流動。這些理論對於超光滑表面加工已經不完全適用，基於新原理的超光滑表面加工方法不斷湧現。