18年11月，中科院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”透過驗收。
但是，光電所自己說了，我們光電所的光刻機適合加工一系列奈米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導奈米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、和超表面成像器件。
什麼意思了，就是我們的這個光刻機可以對物體表面進行精密光刻了，但這並不是晶片製造人們理解的光刻技術。
光電所的人給的解釋很適中，
其實，中科院光電技術研究所的這項技術就是表面等離子體超分辨光刻，也叫surface plasma，我們也把其稱之為表面等離子超衍射光刻，這是最近十幾年興起的新技術。這種光刻的工作原理是入射光照射在透鏡表面的小探針上，從而激發產生plasma，產生波長非常短的等離子體，然後在光刻膠上刻出非常小的圖形。（借用國外一家研究所的圖片）
且從上圖就可以看到LWR粗糙，歪歪斜斜，影象保真度非常低，目前只能作為技術驗證，不能作為真實生產，更不要說量產可能了。
和我們熟悉的半導體積體電路完全無關，無法應用在積體電路領域，SP光刻技術對於積體電路的光刻需求不適用。
國外使用SP光刻技術做的效果，明顯好於中科院，這一技術並非中國首創，國外有很多實驗室也做出了成品驗證機，效果還優於中科院，甚至都達不到國際領先的程度。
最大的缺點是由於SP光刻聚焦的面積非常小，屬於接觸式光刻，一點點的defect缺陷就會造成成像品質的問題，屬於直寫式光刻，所以生產效率很低，只能作為E beam光刻一種補充，適用於特殊應用。
中科院光電技術研究所研究SP最大的意義，在於為中國發展高分辨、低成本、高效、大面積奈米光學光刻技術提供重要方法和技術思路，社會應當支援並贊同這種創新！
由此，至少在目前為止，中科院的22奈米解析度光刻機跟ASML用於晶片技術光刻機其實是兩碼事!
至於未來，誰知道會發展成什麼樣？科學就是科學，並不能靠猜測來實現！
18年11月，中科院光電技術研究所承擔的國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”透過驗收。
但是，光電所自己說了，我們光電所的光刻機適合加工一系列奈米功能器件，包括大口徑薄膜鏡、超導奈米線單光子探測器、切倫科夫輻射器件、和超表面成像器件。
什麼意思了，就是我們的這個光刻機可以對物體表面進行精密光刻了，但這並不是晶片製造人們理解的光刻技術。
光電所的人給的解釋很適中，
其實，中科院光電技術研究所的這項技術就是表面等離子體超分辨光刻，也叫surface plasma，我們也把其稱之為表面等離子超衍射光刻，這是最近十幾年興起的新技術。這種光刻的工作原理是入射光照射在透鏡表面的小探針上，從而激發產生plasma，產生波長非常短的等離子體，然後在光刻膠上刻出非常小的圖形。（借用國外一家研究所的圖片）
且從上圖就可以看到LWR粗糙，歪歪斜斜，影象保真度非常低，目前只能作為技術驗證，不能作為真實生產，更不要說量產可能了。
和我們熟悉的半導體積體電路完全無關，無法應用在積體電路領域，SP光刻技術對於積體電路的光刻需求不適用。
國外使用SP光刻技術做的效果，明顯好於中科院，這一技術並非中國首創，國外有很多實驗室也做出了成品驗證機，效果還優於中科院，甚至都達不到國際領先的程度。
最大的缺點是由於SP光刻聚焦的面積非常小，屬於接觸式光刻，一點點的defect缺陷就會造成成像品質的問題，屬於直寫式光刻，所以生產效率很低，只能作為E beam光刻一種補充，適用於特殊應用。
中科院光電技術研究所研究SP最大的意義，在於為中國發展高分辨、低成本、高效、大面積奈米光學光刻技術提供重要方法和技術思路，社會應當支援並贊同這種創新！
由此，至少在目前為止，中科院的22奈米解析度光刻機跟ASML用於晶片技術光刻機其實是兩碼事!
至於未來，誰知道會發展成什麼樣？科學就是科學，並不能靠猜測來實現！