想提高專利技術交底書的撰寫效率，有以下三方面的

（1）重點突出

為提高專利技術交底書的撰寫效率，發明人可根據重點突出的原則，對本專利申請的發明點，改進點優先進行詳細描述，而對現有技術部分可暫時簡略描述。

以節省時間，減輕負擔，發明人可以在電話溝通中向代理人解釋現有技術的相關內容。

（2）看圖說話

撰寫專利技術交底書時，可採用看圖說話的方式撰寫。

先繪製附圖，再對附圖進行解釋說明即可。然後描述每個技術特徵的優點，意義或價值。

採用附圖為撰寫線索，思路會更加清晰，適合結構類，或機電結合類專利技術交底書的撰寫。

（3）3T撰寫原則

3T是指技術問題，技術手段，技術效果。

3T撰寫原則是指，在撰寫每個具體技術點時，要寫清楚該技術點解決的技術問題，採用的技術手段，以及相應地達到的技術效果。

確保形成三者之間的嚴格一一對應關係，這樣邏輯性、原因關係很強烈，而且有利於提高專利答辯成功率，從而提高專利授權機率。（知產迷）