獨立自主、自力更生，中國高鐵、航天已用事實證明，中國有能力做自己的光刻機，甚至做得更好。目前我們只有14nm，囯外有5nm技術了。相信科學家和工程師、技術工人們一定能攻克這項高科技！

題主問的應該是華為能不能研發出類似ASML生產的那種7nm甚至5nm的頂級光刻機吧？答案是，能研發出來，但製造不出來。因為高階光刻機的很多零配件，是被西方禁運的。

1.光刻機的原理我們懂

簡而言之，光刻機就是利用鐳射把電路刻到晶圓上。這個原理，和我們上學時學的內燃機原理一樣，是公開的。我們中學就明白內燃機原理，但是我們各大汽車公司，還是造不出效能可匹配歐美日的發動機。在光刻機領域，道理一樣。

所謂光刻，就是透過鐳射把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。利用光刻機發出的光透過具有圖形的光罩對塗有光刻膠的薄片曝光，光刻膠見光後會發生性質變化，從而使光罩上得圖形影印到薄片上，從而使薄片具有電子線路圖的作用。這就是光刻的作用，類似照相機照相。照相機拍攝的照片是印在底片上，而光刻刻的不是照片，而是電路圖和其他電子元件。（原理見下圖）

從原理上講，華為工程師一定比我們理解得更深刻，能設計出更精美的方案，但問題在於--製造，我們沒有匹配的零配件。

2.瓦森納協議的限制

1996年7月，在美國主導下，以西方國家為主的33個國家在奧地利維也納簽署了《瓦森納協定》(簡稱“瓦協” Wassenaar Arrangement)，決定從1996年11月1日起實施新的控制清單和資訊交換規則。“瓦協”包含兩份控制清單：一份是軍民兩用商品和技術清單，涵蓋了先進材料、材料處理、電子器件、計算機、電信與資訊保安、感測與鐳射、導航與航空電子儀器、船舶與海事裝置、推進系統等9大類；另一份是軍品清單，涵蓋了各類武器彈藥、裝置及作戰平臺等共22類。

中國在“瓦森納協議”被禁運國家之列。而高階光刻機的主要零配件，都在禁運的清單上。中國大部分也能製作出來，但是精度達不到，所以製造不出類似ASML生產的那樣高階光刻機。

3.中國製作2025，我們一直在努力

為了在高階製造、精密機床等方面迎頭趕上，不再受制於人。國家提出了“中國製作2025”，也就是“工業4.0”，而高階光刻機，就是其中的重點之一。

2019年，根據媒體報道，武漢光電國家研究中心的甘棕松團隊，已成功研發出9nm工藝製程的光刻機。與傳統光刻機不同的是，此次的中中國產光刻機利用二束鐳射突破了光束衍射極限的限制，刻出了最小9nm線寬的線段，這也是我們獨有的技術，我們也用著自主產權。

可見，離ASML的7奈米、5奈米越來越近了。

我們有理由相信，在不久的將來，不一定是華為，但中國一定能夠研發、設計、製作出能夠媲美ASML的光刻機。就像兩彈一星、殲20和航母一樣。