攻克光刻機所有部件的設計，製造，以我們國家的力量，不能說不能，但難度肯定是不小的。現在我們國家能製造生產多少奈米的光刻機，如果製造更加精細的晶片，對光刻機的要求有多高，差的在什麼地方，中國大陸有沒有這方面的人才儲備。事情的最終解決就看人了，在現有的培養環境下，有多少人才，如果缺乏，能不能夠引進來，引進來能不能留得住，這需要國家頂層設計 ，做為行業部門充分行動起來為這一目標而努力，假以時日，相信總會成功的。

急於不能求成，心急則萬事不成。雖然我們的工業科技和基礎科學有了非常大的進步，總體上我們還是處在落後和追趕之中。我們一要努力二要心沉三要有隻爭朝夕的精神，基礎打好了，全系統搞清楚了，一定會趕上和超過世界尖端科技，一定不會再讓別人卡我們脖子。

5年內，解決光刻機問題，主要還是一個錢的問題。如果錢夠了，剩下的就是找對人的問題，全球懸賞就是了。如果指望中科院，上海微電子，別說5年，如果不改革，50年都不一定能行。他們只會發論文。

攻克它，是華人的目標，如果全球沒有打壓的話題，可能不用5年，光刻機聽說十萬件繼承，每一個零件都要攻克，還要攻克對接，連成一個整體，我沒有這個能力猜到，但總有那一天

到2025年7奈米應該沒問題，5奈米運氣好應該也沒問題，3奈米就是時間問題了。要考慮的是彎道超車啊，也許放棄矽基，碳基超越了呢？

一看便知，該問是要求回答何時能攻克極紫外高階光刻機的難題。

當務之急其實是攻克中端光刻機的難題。即在我們國家的重大專項支援下，面向28奈米工藝節點的193奈米波長光刻機研製攻關，中科院的白春禮院士在2020年年底時肯定地說“目前已在開展”。看來，我們國家確定在研製攻關中端、DUV的光刻機，關鍵詞是“攻關”！處於研製的最後階段，但攻關又可能是挺棘手的，難題較多、難度較大、週期較長，要不然，就不會直到現在還沒有來自上海微電子或者其配套廠家關於難題何時攻克以及整機何時量產的官宣。對該28奈米光刻機，自媒體一直以來的報道則是今年（底）或者明年量產，明顯是不確定、不肯定的說法，顯然主要是基於自我並不知根知底的估計，緣於所依據的是並不確切的“非官方”訊息；另有報道說並不完全“以我們國家自己的力量”，主流的說法倒是侷限於材料用日本的。據此我認為，28奈米光刻機研製攻關主要是以我們國家自己的力量， 從2020年算起，5 年內“攻克+量產”應該是沒問題的。

高階光刻機研製攻關主要以至完全“以我們國家自己的力量”是一定的！即使想模仿荷蘭的高階光刻機，也做不到啊，中芯國際到現在還是沒有拿到那臺早就下了訂單的。從現在美國的態度看，較長的時間內幾乎完全沒可能購買或者叫引進到我們國內來。

高階光刻機的難題無疑需要更長時間才能攻克。 5 年？ASML以自己和多個其他國家的力量，用了 11 年才推出第一臺EUV的原型機，總共用了 20 年才實現量產，在此基礎上研製成的 5 奈米光刻機同樣耗時 20 年，所以，中科院的白春禮同時又說我們國家的極紫外高階光刻機研製攻關“還有很長的路要走”。引人關注的 1 個問題是，中科院為什麼一宣佈進場，就“部署新技術路線光刻機的研製”，而不是直奔傳統路線？我覺得具有致力於另闢蹊徑，彎道超車的意味，是為了以相對短的時間，即更快地研製出高階光刻機，也就是考慮到上海微電子及其國內配套廠家按傳統路線研製，所遇到的難題會更多、更難，所用的時間也就會比ASML及其國外配套廠家長。

迎難而上，攻堅克難，華人民的意志品質都多次經過了歷史的檢驗，戰無不勝，攻無不克就是中華民族堅韌不拔的毅力都得到了歷史的嚴峻考驗和世界上各國的認可。中國一家民營企業華為通訊裝置製造公司就以事實讓世界刮目相看。