我們不要只看到高階晶片的製造和市場！

用到晶片的電器太多太多了，大到冰箱彩電，小到遙控器兒童玩具等等等等！不要小看了28nm的晶片和製造研發，這是走向更先進製造工藝的必經之路！也是佔有龐大市場必須要有的技術和產能！

現在電子產品的晶片製程已經達到了10奈米，7奈米正在向著5奈米和3納米制程工藝進發。目前世界電子產品界對極紫外EUV光刻機需求較大，而對深紫外DUV光刻機的需求沒那麼大。說句不好聽的話28奈米工藝製程已經落後了，因為它是2011年時的技術，距今已經過去了9年。即便是上海微電子將於2021年交付製程為28奈米的光刻機，那對製程工藝要求苛刻的電子產品來說影響也不大。

因為晶片的製程工藝越小，就意味著其功耗越低，效能越強，散熱能力越強。就拿高通驍龍855和845處理器來說，高通驍龍855處理器採用的是7納米制程工藝，而高通驍龍845採用的是10納米制程工藝，但是855處理器的效能要比845強了45%，圖形處理上強了20%。除了設計帶來的效能提升外，其他就全靠製程工藝了。所以說，電子產品對製程工藝的追求是無止境的，越低越好。

或許，中中國產28納米制程的光刻機對電子產品沒有影響，但是對於其他對製程工藝要求不高的行業影響還是挺大的。如:國防工業，運營商基站晶片，工業晶片，超級計算機。只要有了28納米制程工藝的光刻機，那麼國內以上這些行業所需要的晶片就不會受制於人，完全可以實現獨立自主。當然除了實現獨立自主之外，還可以將以上行業晶片的效能提高一個級別。由此可知，量產28納米制程工藝的晶片，對國內的製造業，國防工業有著重大的意義。雖說在商業應用上被國外卡脖子，但是涉及到重要的國防工業，重工業可以做到獨立自主已經不錯了。

在國外製裁的今天，中中國產28納米制程工藝的DUV光刻機的部件全部是中中國產的。其重要的鏡頭組來自於國望光學，掩膜臺應該來自國內哪個企業還不清楚，不過清華大學在2014年就製造出了工件臺樣機，並且指標實測達到MA2.2奈米，MSD4.5奈米，中國也是世界上第二個，掌握該技術的國家。在7年之後的2021年，中中國產工件臺的精度在上一個臺階也沒有大問題。說到DUV光源技術，中國稱第二，沒有哪個國家敢稱第一。畢竟KBBF晶體的技術領先國際1-2代，製造出合適的光源也不存在難題。在光刻機三大重要部件都突破後，製造出28納米制程工藝的光刻機也就順理成章了，可以說，在11納米制程工藝之前的技術，國內都不會被卡脖子了。

要知道，米國可以為了一己之利，全力制裁一個企業，這就讓世界各國看清楚了米國的面具下藏的真實意圖。中國在28納米制程光刻機突破後，完全可以對外出售到那些害怕被制裁的國家，以打出光刻機出口的一個突破口。趁著全球各主要強國在產業上去美國化的程序，加緊研發更先進的光刻機，以實現對外出口。總體而言，中中國產28納米制程工藝的光刻機，對現有的電子產品領域造不成什麼影響，但是對於國內相關企業的意義是十分重大的。

中國28nm光刻機一旦下線量產，對我們的晶片製造產業會帶來巨大影響，而我們半導體產業的發展必將影響整個世界半導體行業的走向。

很多人可能以為28nm光刻機可能只能做28nm的晶片，事實上這種理解是完全錯誤的。28nm的光刻機透過多重曝光是可以實現更先進製程晶片的生產製造，除了28nm晶片外，也可用來生產14nm、12nm，10nm等晶片。如果有更好的套件精度，透過多重曝光甚至可以實現7nm製程晶片生產。

當年臺積電最初的7nm製程晶片也是使用多重曝光技術來實現的，真正的7nm EUV光刻機其實是用來生產5nm、3nm這類更先進製程的晶片。

因此，有了28nm光刻機，我們理論上可以實現7nm晶片製程的生產。這個製程已經可以滿足華為麒麟980、990這樣高階晶片的生產需求了。

但是，我們僅有先進的光刻機其實還不行，在代工技術上我們仍需要提高。同樣的光刻機在臺積電手裡可以實現7nm製程晶片，而在中芯這邊就只能是14nm製程，在代工技術上我們仍舊有不小的差距，需要中芯等代工廠商努力提高。

現階段中芯研發出的最先進製程達到了N+2，實際可以達到7nm高效能版要求，未來或許可以配合中中國產的光刻機進行生產。

光刻機和代工技術的發展必定會推動我們整個半導體產業的發展，因為從此基本解決了中國大部分晶片的生產問題。

現在7nm製程以下的高階晶片需求量看似很大，但是放眼整個晶片產業，那就是極少一部分，僅僅是手機上需要，包括AMD電腦晶片，剩下大部分產業可以用10nm、12nm、14nm，28nm，甚至是65nm晶片都能用。

這種情況下，我們就能做到自給自足，同時還能對外搶佔中端市場，未來在光刻機領域或許就只有中荷兩國競爭了，日系廠商基本處於被淘汰邊緣了。

一旦我們的晶片能完全自主生產，華為這樣的企業就再也不用擔心被斷供的問題，可以放心大膽的在前面衝鋒陷陣。

28nm光刻機如果能準時量產那我們和荷蘭ASML的差距又縮小了，基本可以上超過了日系廠商，同時這也將促進中中國產晶片在高階領域的高速發展，未來將徹底擺脫只能在低端或者下游領域混飯吃的局面，從此逆襲走向新發展之路。當然，我們還是得認清和荷蘭ASML的差距，10年之內應該仍舊追不上人家。

    2021年，上海微電子交付28nm光刻機，中國主流的半導體晶片可以實現“自主可控”，利用雙工作臺進行多次曝光的原理，有生產7nm製程的潛力，將在短時間內解決中中國產晶片的製造難題。

    2021年，上海微電子交付28nm光刻機是否靠譜呢？畢竟上海微當前最先進的光刻機是90nm，2007年實現了交付，時隔13年，才實現了28nm工藝，是什麼原因造成的呢？

    首先要說清楚的是，上海微電子也僅僅是系統整合商，關鍵零部件來自於外來，而不是自己生產。荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，90%的關鍵零部件來自於外來，美國的計量裝置和光源、德國的鏡頭和精密儀器、瑞典的軸承等等，最麻煩的是這些精密儀器和配件對中國是禁運的。也就是說，上海微電子要造出28nm光刻機，只能等待國內供應鏈的成熟。

    目前，中微半導體推出了5nm製程蝕刻機，ArF光刻膠實現了中中國產化，北京科益虹源光電突破了關鍵的光源系統，國望光學突破了鏡頭工藝，華卓精科突破了浸入式雙工作臺等等，上海微電子負責控制系統和總裝。

    目前，荷蘭ASML最先進的EUV光刻機，可以生產5nm製程工藝的晶片，下半年釋出的麒麟1020處理器、蘋果A14、驍龍875處理器將會採用5nm製程工藝，進一步提升了手機處理器的效能，並且降低了功耗。上海微電子的28nm光刻機，至少還有10多年的差距，而這麼大的差距，短時間也是無法彌補的。

    原因1：西方國家有一個《瓦森納協定》，最先進、最尖端的技術對中國是禁運的，最先進的光刻機集成了全球最先進的技術，由於受到了技術封鎖，中國無法進口這些裝置和技術。

    原因2：像高階的EUV光刻機，我們是很難模仿的，荷蘭ASML將數百家公司的技術整合在一起，有80000多個零件，非常複雜。不僅如此，來自德國蔡司的鏡頭是專門為ASML生產的，世界上沒有一個國家的公司可以模仿，而且EUV光刻機裝有感測器，一旦檢測到異常發生，就會響起警報。

    總之，上海微電子雖然突破了28nm製程工藝，然而距離荷蘭ASML的EUV光刻機還有很大的差距。雖然，中國有強大的製造業，模仿能力也超強，然而在技術經驗積累、人才儲備、配套零部件方面還遠遠不足。

雖說28nm的光刻機對中國來說意義重大，但是對標ASML來說這是很多年前的落後技術，基本上對世界電子產品格局來說翻不起什麼大波浪。

雖說中國自主研發的光刻機能突破28nm確實可喜可賀，但是我們並不能被這個訊息衝昏 了頭腦。平心而論這是ASML在2011年的技術，距今已經有9年的時間，現在我們才取得突破不值得大張旗鼓的慶賀。

目前光刻機的市場基本上都被ASML、佳能以及尼康是最大的三家供應壟斷，他們基本上拿走了所有的光刻機份額。在高階的光刻機市場100%被ASML公司把持著，但是由於盧森堡協定，中國沒有辦法拿到最新款的光刻機，只能購買兩年前的落後產品，這讓中國的晶片加工行業發展一直落後於其他國家。

在很多朋友看來，華為麒麟晶片目前代工的最大原因就是國內沒法買到ASML最先進的光刻機，這是一種非常錯誤的觀點。如果沒有一個好的代工企業，我們就算是有先進的光刻機也只能如寶山空手而歸。

舉個例子大家就明白了，大陸廠商華虹半導體、中芯國際能夠買到的光刻機是一樣的，為何中芯國際能生產14nm晶片，而華虹半導體還在28nm？這就是技術有高低的表現。同樣的道理就算我們拿到了最新款的光刻機，沒有相關的代工技術，我們和臺積電、三星等老牌代工企業相比依舊不在個檔次。

28nm的光刻機雖說確實只能算低端光刻機，但是在此時此刻依舊意義重大。

前段時間華為晶片時間鬧得是風風火火，美國的一紙禁令讓華為陷入了無芯可用的尷尬境地。緊接著上海微電子曝光將會在明年交付28nm的光刻機，並且理論上講有生產7nm晶片的能力，這也算是給華為留了一條後路。

況且整個晶片產業要崛起，並且不怕被美國卡脖子，需要半導體裝置、原材料、設計、製造、封測水平整體都上來了才行的，缺少任何一項都不行。中國起步太晚了，只能一步步的來，這樣才會走的穩當又踏實。

不管怎麼樣中國的光刻機也算是向前邁出了一大步，雖然可能在幾年甚至十幾年都無法追上ASML，但是這臺光刻機是中國自己的光刻機。只要我們能擼起袖子加油幹，肯定有能夠趕超的一天！

【中國28nm光刻機明年交付？會不會讓我們擺脫西方技術對我們的束縛？】

這個訊息內容是——上海微電子裝備股份有限公司，宣佈將在2021年至2022年交付中中國產第一臺28nm的immersion式光刻機。你可能覺得ASML的7nm EUV已經退出這麼久了，怎麼上海微電子才推出28nm工藝呢？有什麼可以驕傲的呢？

實際上，我們必須知道的是，雖然和荷蘭ASML的28nm工藝有一段距離，但是你必須知道的是，上海微電子目前正在銷售的是90nm工藝製程。因此，你可以知道的是從90nm到28nm這一段路程確實非常的艱難。

而上海微電子的封裝光刻機技術，現在已經成為封測龍頭企業的重要供應商，並且在國內市場佔有率高達80%，更是在全球市場佔有率達40%。因此，在國內光刻機領域，它是重要的一環。

但是，我們必須要知道的是，我們現在雖然已經突破了28nm工藝，可是別高興的過早。因為，我們現在的28nm工藝製程和ASML的7nm EUV的差異還是很大的。

雖然有訊息稱，透過技術能夠讓它能夠實現7nm工藝製程，但是必須知道的是，這種差異性確實目前還會有制約。

ASML為何獨樹一幟？這種情況是多方面造成的。我們知道ASML實際上因為多種因素獲得的成功——

1.它將多家企業作為它的股東，獲得了資金的投入，同樣也獲得了更為先進的技術。比如英特爾，三星，臺積電都是ASML的股東，因此它們的支援，能夠讓ASML帶來更強的資金方面的優勢。

2.它使用了多家技術的合集，在它身上有8萬多個零部件，來自全球多家公司，比如說德國的鏡頭，美國的光源，這些技術確實讓他成就了獨一無二的ASML。

同樣因為【瓦納森協議】的束縛，我們在技術發展中心也受到一定的限制，這種限制確實對於我們整體的發展，特別是光刻機的發展，產生了極為重要的影響，也束縛了我們在光刻機方面的進步。但是，上海微電子的28nm工藝，實際上給了我們更多的機會打破束縛，為未來我們技術的進步，以及打破西方的禁錮，提供了非常好的機會。

中國28nm光刻機投產，意義非凡！

28nm光刻機透過多次曝光，可以實現11nm的製程，僅比目前在產最先進的7nm製程相差一代。

用這種光刻機可以生產99.5%數量的晶片，可以使得這些晶片獲得“中國碾壓式”的優勢。

可以期待，下一代的光刻機問世之時，就是中國獲得0.5%數量但是頂級晶片製造技術。

中國28mm如明年按期交付意義重大:一是雖然28納米制程工藝光刻機與7%奈米、5奈米相距甚遠，但對中國這麼一個在半導體起步較晚的國家，顯然這是重大突破!因為任何事情都是從無到有，從低端到高階的!可以說，有了低端，高階就有希望!二是雖然28納米制程工藝用於手機還很低端，但由於我們自己能生產光刻機，意味著中國國防工業、絕大部分民用工業所需要的晶片都可以用這個光刻機來解決。這樣我們很多領域的晶片，就再也不會受制於人，完全可以實現獨立自主。而且在此基礎上，還可以不斷完善技術，提高各行業晶片製程的技術與效能，保證了中國的戰略安全。三是量產28納米制程工藝光刻機，除對國內國防和其他民用工業有著重大意義外，據說中芯國際還可以將28nm的光刻機經過多重曝光實現更先進製程晶片，如14nm、12nm，10nm等晶片。如果有更好的套件精度，透過多重曝光甚至可以實現7nm製程晶片生產。據說當年臺積電最初的7nm製程晶片也是使用多重曝光技術來實現的。這樣這個製程理論就已經可以滿足很大部分的這樣高階晶片的生產需求了。

當然，中國光刻機剛起步，裝置在各方面不夠完善是肯定的，我相信上海中微電子的科學家一定會為了祖國的強大而不懈地努力追趕，直至取得最終的勝利!

據報道，上海微電子裝備有限公司將於2021年實現28nm光刻機的量產，目前中中國產最好的光刻機是90nm。28nm光刻機的成功量產，對於中中國產光刻機來說，具有里程碑的意義。因為90nm光刻機對於目前的晶片來說真得不夠用，而28nm光刻機對於目前的部分晶片來說，還是夠用的。像現在的手機處理器已經發展到5nm水平，今年即將釋出的麒麟1020處理器與蘋果A14處理器採用的就是5nm工藝製程。即使目前一些中端5G處理器也在使用7nm工藝製程，28nm晶片只有一些百元機還在使用。

目前最好先進的中中國產光刻機就是由上海微電子裝備有限公司生產的90nm光刻機，上海微電子裝備有限公司需要到2021年才可以實現28nm光刻機的量產。而世界上最先進的光刻機已經發展到5nm技術，28nm光刻機應該是10年前的水平了。

即使上海微電子裝備有限公司生產出28nm的光刻機，我們依然有世界頂級的光刻機有著很大差距，更不能從根本上解決中國光刻機現有的問題。當然我們也不能因為這，停止研發光刻機，光刻機的研發並不是一蹴而就的，需要長期的技術積累，連28nm的光刻機都研究不出來，何談5nm光刻機。所以中中國產光刻機也需要一步步的來來。

其實中中國產光刻機研發的時間還是比較早的，中國做出第一臺光刻機的時候，荷蘭的ASML公司都沒有成立。然而到了80年代，中國很多企業有了“買辦”的思想，很多企業認為自己租研發會消耗掉大量的人力與物力資源，同時企業也需要承擔很大的風險。不如直接組購買國外的光刻機，這樣還能省下不少的資金，企業不用承擔風險。所以自從那時起，中國的光刻機技術與國外的光刻機差距越來越大了。

在1996年，以西方國家為主的33國家在奧地利維也納簽署了《瓦森納協定》。這33個國家之間可以實現技術的共享，但是如果他們其中的一個國家要向非成員國出售關鍵技術或者關鍵零部件時，需要經過其他成員國的同意才可以進行出售。這也是制約中國光刻機發展的根本原因，很多光刻機的零部件以及技術我們都買不到，所以我們只能靠國內的公司。

在2018年時中芯國際就向ASML訂購了一臺EUV光刻機，已經到2020年了，中芯國際還沒有收到這臺光刻機，其中就是因為美國的阻撓。

既然我們買不到關鍵的零件，只能我們自己去做。中中國產光刻機的發展並不是靠一家公司就可以完成的，需要中國整個半導體行業的共同努力。

首先那個不叫28奈米光刻機。Asml也沒有28奈米光刻機。它光源的波長是193奈米。更短的波長會被介質吸收。所以沒有波長193奈米以下的duv光刻機。

用193奈米的光刻機，可以最高做到7奈米的工藝。

所以半導體也不光是光刻機的問題。晶圓代工廠的工藝水平也很重要。

這個就是Duv光刻機。至於有些說它不行的可以歇歇了。上海微電子十年來累計投資只有6億人民幣，還不夠買一臺Euv光刻機。正因為投資力度太小，今天中國半導體產業才如此被動。不要有意無意的做了西方國家嚇阻中國的幫兇。

凡是“中國永遠做不出來”的東西，都是中國應該全力投入去做的東西。人家嚇阻你，正說明它重要，而且可能並沒有想象的那麼難，正是因為中國可能會做出來，所以他們才嚇阻。

最後，對產業進行指導，高瞻遠矚的話就別說了，連光刻機的性質都沒搞清楚，讓外行人誤以為你是專家，多不好。

對我不懂的東西，我傾向於認為別人能做出來。研發從來都是有困難的，不可能一帆風順，但只要投入夠大，決心夠大，一定能搞出來。

中國進口最多的類別，就是半導體。幾千億美元的級別。到第十之後，就是幾十億美元的級別了。跟國家經濟規模的量級相比，可以忽略不記。

也就是說，半導體之爭，就是經濟領域的決戰。過了這關，美國可以投降了。沒有什麼再能卡中國脖子，只能看著中國慢慢騎到他們脖子上拉shi撒niao。

這麼重要的產業，國家不可能現在還看不清楚。所以，外行人怎麼認為，根本無關緊要。倒是我們，看清未來的方向，能讓自己不去做錯的選擇。