因為光刻機需要全球產業鏈！每個產業鏈都是頂級的！中國目前任何產業不在產業鏈上，而且動用全國之力也只能突破一兩點，但又可被替代！中國太難了！只有不要再發展房地產，潛心做技術才能做到不被卡脖子！

晶片製造方法和路線決定的，幾十年積累的經驗結果，除非有新的方法工藝製造，目前好像還沒找到比這更好的方法，用光來刻，光夠細的了，比光還細的不知該用什麼了

針對這個問題，我們都是外行，覺得很難，對於專業內的人士，這根本不是什麼問題。

是問題的是時間，解決問題是要花時間的，我們能造出90nm的，也就能造出更先進的。

晶片的問題，我們吃了太多的大虧，米帝的封鎖，臺積電的致命訴訟，韓日企業的聯合圍堵，國內漢奸公知的帶節奏，買辦們的誤國縱橫術，使得這高技術、高資本、高人才的行業，一直沒有成功發展起來。

瞭解張汝京博士的人，都知道老人家為祖國的晶片行業付出了多少！他被臺積電在米國訴訟敗，被迫離開中芯國際的。他屢戰屢敗，依舊在建廠，依舊在為振興祖國的晶片事業而努力奮鬥！

現在，祖國下定決心了，傾舉國之力發展晶片行業，未來一定光明可期，雖然目前道路會曲折一點。

我們，每一個華人，能做的很多，包括支援中中國產，支援祖國科技產業，買他們的產品，為他們輸血，讓他們快速迭代技術，讓他們快速成長起來，科技興國！

關於光刻機問題真相如下：

當初日本，中國，美國，歐洲都有光刻機企業，由於全世界光刻機需求量有限，很多光刻機企業研發陷入瓶頸，荷蘭ASML公司透過改變商業策略壟斷了全球光刻機市場，荷蘭ASML的策略是要採購ASML的光刻機，必須要入股ASML，從而綁定了所有晶片製造企業，像三星，臺積電，intel都是ADML的股東，從而捆綁了所有晶片製造企業。其它光刻機企業只能有限的維持光刻機的研發投入，無法像ASML那樣大手筆投入，高階光刻機慢慢的就越來越落後。ASML當初的管理層商業模式取得了巨大成功。

如果不是因為美國率先搞出來，中國自己根本就不會費事去創造的，會一直矇昧下去。

就如歷史上的中國，用了1000年的火藥都沒進步到TNT就是個明顯的例子。燒了2000年的蠟燭都沒進步到電燈是另一個例子。

看了3000年的羅盤都沒進步到GPS是第三個例子。

三個發明分別對應的是化學、物理學、天文學和數學。

這背後不是技術的落後，而是思想的矇昧和科學精神的缺失。

光刻機是一個好多分系統的集合。涉及的技術領域還是比較多的。我就是微電子上市公司的工程師。我們公司還是微電子全流程的公司。我剛工作的時候還是一點五英寸片。光刻機用接觸式曝光。也就是相當於製作照片的印相機。後面發展出二寸片，三寸片，四寸片五寸片。最早最小線條5微米3微米一微米等等。隨著線條越來越細小，矽片越來越大，這就涉及一個熱脹冷縮不同步的問題列啊。當然恆溫可以解決一些問題，但是到了後來恆溫±1℃也難以解決問題列，於是有了步進曝光來解決熱脹冷縮不同步的解決方案列啊。還有大地在振動，整個就在晃動，解決方案就是用防振溝，氣囊等等。但隨著線條越來越細小，這些技術就不夠了，於是就有了動態對標同步的解決方案。光刻版製造接觸式曝光用的是一比一的印相模式，後期進入亞微米點陣曝光的精度就不夠了，於是就有了縮小影象的曝光模式。譬如你的矽片點陣是250奈米你的光刻版的點陣可以做出1250奈米投影曝光縮小5倍就能獲得250奈米技術。這種制板技術只需要在投影縮小倍率上變化又能向下突破。但到了幾十奈米以內有有了光刻線條不能突破二分之一波長的極限於是就有了紫外線和深度紫外線曝光光源的技術來繼續向下突破了。總之一句兩句說不清，但涉及的技術和領域太多，不是靠一個公司一撥人單打獨鬥可以完成的，國內這種大協作的命運共同體還沒有完全形成，要想完成超越ASML的光刻機短時間確實可能性不大啊嗚

耍小聰明的代價，沒有研發就是撿現成的，簡單說撿便宜，人家投資研發的目的就是為了提高自己，不給你用是他們的事情！

網上熱議中國無法做高階光刻機，這是外行看熱鬧的典型表現。

近期破產的、位於成都市的美國格芯公司，幾臺高階光刻機就在哪裡休息，建議中芯國際買過來用就行。

曾主導臺積電和三星公司的技術總監，現主導中芯國際技術的梁孟松先生一定不負眾望，很快就能拿下5納米制程晶片。