中國的光刻機起步不晚，中國在1965年就成功的研製出光刻機，遠遠早於荷蘭王國。只是後來沒有在這方面著力發展，所以逐漸被外部世界給趕上，並且被外部世界遠遠的拋在身後。

造成這一局面的根本原因就是，當年中國實施的是全面而徹底的計劃經濟制度，導致中國的工業、科技失去了市場驅動力。也就是說沒有龐大的市場需求，也就不會有發展的動力，即便有出色的科研成果，也無法創造多大的財富。

很多外華人驚異於中國的強悍，大肆稱讚華人的聰明勤奮。國際社會普遍認為，中國實施改革開放僅僅40年，取得的成就卻相當於西方社會幾百年！

也許世人沒注意到一些事實，上世紀五十年代我就能造汽車、冰箱，上世紀六十年代中國就能造核彈丶彈導導彈丶戰機，上世紀七十年代中國就能造萬噸貨輪……，中國在改革開放前就有較完整的工業體系，就有較強的工業製造能力。

當時中國的落後，主要是市場對經濟發展沒有什麼驅動力所致。改革開放導致中國的市場機制被徹底啟用，使得中國經濟得以高速發展。很多第三世界國家效法中國，大搞改革開放，但是效果不如中國，其根本原因就是工業基礎差。

近兩年來中興、華為先後被美國製裁，再到國內科技企業被美國製裁、臺積電的赴美建廠，讓我們華人認識到發展半導體產業的自主是多麼的重要 。雖然當下國內有臺積電、三星這樣的晶片製造大廠，但是畢竟這都是外企在國內的設廠市場經濟行為，我們自己並沒有真正掌握半導體晶片的相關製造能力。而國內半導體制造大廠中芯國際雖然是屬於我們自己實力最強的晶片大廠，但是在關鍵的光刻機需求上卻不能實現自給，只能從國外進口，但是光刻機的重要性不亞於高階數控機床，其同樣受《瓦森納條約》的限制，所以2018年中芯國際雖然從光刻機巨頭ASML手裡訂購了一臺高階的5nm極紫外EUV光刻機，但是時至今日該光刻機出口仍然沒有得到荷蘭政府的許可。從國內整個半導體產業鏈的發展來看，在光刻機領域技術最先進的就是上海微電子研究所，其研發製造的光刻機已經成功進入臺積電和中芯國際開始生產晶片，但是上海微電子研發的光刻機和世界最先進的荷蘭ASML研發的EUV光刻機之間的差距還很大，所以對於中國而言，雖然現下已經能夠研發製造光刻機，但是技術發展卻和國際先進水準相差甚遠。當然受限於國內半導體產業發展較晚的限制，國內當下半導體產業發展和世界先進水準之間還有近二十年的差距存在，的確發展的晚且起步低阻擋了中國半導體產業的良性發展，但是在整個半導體產業發展中最關鍵的是，首先長期以來中國一直是一個農業為主的國家，在高科技行業並不是很注重。後面隨著改革開放中國開始首要執行經濟快速上升的發展路線，但是這個時候國內經濟工業產業發展主要核心還是從華人最擅長的基礎加工製作為核心，對於半導體這樣的高科技產業依然不是很注重。所以在觀念和介入上晚了西方國家幾十年，便造就瞭如今國內半導體產業嚴重受制於人的囧勢。但是進入新世紀後，隨著電子技術的快速發展，不管是軍用武器越來越電子化發展，還是民用領域的數碼產品、5G通訊等都需要越來越多的晶片加持，特別是隨著網路戰的全面爆發，對於一個國家的國防和人民安全來說，掌握自主更是關鍵，而晶片這個硬體和作業系統這個軟體就顯得很重要。相比軟體作業系統雖然發展的同樣緩慢，但是軟體作業系統並沒有受制於人，只是因為市場因素髮展的較為緩慢罷了。但是硬體晶片的產業發展卻受到工業實力高低的直接影響。所以對於中國在半導體產業發展來說，首先半導體這類東西最早是西方國家研發的，當時對於我們吃飽都是問題的年代來說有和沒有並不重要，但是隨著世界的發展變化，這類東西的重要性越來越大，所以對於我們來說就得大力發展半導體產業了，但是這個時候西方國家早已在半導體行業深耕多年，晶片技術早已更新多代，而我們才剛剛一隻腳踏入，這也是我們起步晚的原因所在。再一個光刻機作為整個半導體產業鏈中最複雜、也是最先進的製造裝置，研製難度涉及到化學光學、物理光學、機械、微電子等多個學科，而每個學科只有做到世界前列才能研發出高效能光刻機來。但是中國主要還是一個以農業和工商業為主的社會體制，在製造業上並沒有追趕上世界潮流，所以不管是從觀念還是從實際行動以及實施起來的難度來說，包括光刻機在內的整個半導體產業我們走的路都很難。

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事實上我們研發光刻機的時間並不晚，甚至可以說在上世紀90年代前，我們的整機水平不比世界先進水平差。

也許大家可能想不到，上世紀50年代我們國家就提出了發展半導體和計算機產業，並且將這個發展任務直接寫進了遠景規劃中，也就是《1956～1967年科學技術發展遠景規劃綱要》。

按照這一規劃我們逐步發展，於1965年前後開始使用光刻技術來生產積體電路，而日本是在60年代末加入光刻機研發行列。到了1977年，我們自己的半自動光刻機GK-3型誕生，2年後上海產的JKG-2光刻機研製成功。

在改開後初期，我們國內有多家廠商能研發光刻機，1445所、科學院109廠、上海光學機械廠等。可見，我們在光刻機領域的起步不晚，技術水平也不是差，其中上海的JKG系列光刻機至今仍有銷售，當年和日本佳能產的光刻機水平也僅有5年左右的差距，遠比現在要小得多。

不得不說改開的確給我們帶來了經濟的騰飛，但是在那個年代也產生了非常不好的思潮，也就是我們現在說的買辦思維，造不如買，買不如租。

從上世紀80年代起，中國的很多自研專案開始下馬，其中也包括光刻機，這裡面一方面的確有技術落後，無經費研發等客觀因素，但更重要事的還是人的思想變質了！

獨立自主、自力更生的這種觀念開始逐步退化！

到了80年代末，90年代初，經濟體制發生重大變革，很多企事業單位的員工面臨下崗自謀出路困境，吃飯都成問題了，這還有誰去搞研發啊！從此，技術上出現了斷代，我們開始被遠遠的拋在後面。

當然，還有一個層面就是光刻機技術本身也發生了變化，荷蘭和臺積電等廠商在2001年前後提出了全新的光刻機技術，最終荷蘭ASML開始一飛沖天。

當荷蘭廠商開始採用新技術研發光刻機時，我們才剛剛回過神來知道光刻機的重要性，於2002年成了上海微電子開始重新攻關光刻機。

至此，中中國產光刻機的新徵途正式開始，目前正在逐步的追趕中，相信未來我們一定能生產出高階光刻機。

1956年，第一隻電晶體誕生，比貝爾實驗室研發世界第一隻點接觸三極體晚九年。

1958年又研製鍺電晶體成功。

1961年，成立第一個積體電路課題組，第二年矽平面電晶體問世。

1965年，第一塊積體電路問世以及中國科學院研製出65型接觸式光刻機。

1970年代，中國科學院開始研製計算機輔助光刻掩模工藝。

清華大學研製第四代分步式投影光刻機在1980年獲得成功，光刻精度達到3微米且接近國際主流水平。

1982年科學院109廠的KHA-75-1光刻機。

1985年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機。

根據武漢無線電元件三廠編寫的《光刻掩模版的製造》，中國晶片光刻工藝研究起步比美稍晚，與日幾乎同時起步，比韓、臺早10年。

可見，在上世紀五十年代到八十年代初，老一輩革命家和科技建設者創造了中國半導體事業的輝煌，是中國半導體事業的盛景期。這時哪裡有什麼阿斯麥，到1984年才有阿斯麥。

八七年代中後期出現了滑鐵盧，結果大好前景付之東流，這也與中國歷史背景有關。

七十年代後期的文革結束、恢復高考、改革開放。很明顯，之前的成就都是在外界封閉的環境下創造的盛景。雖然與世界先進水平有差距，但也不至於把距離拉的很大。之所以能夠取得如此完美的開局，始終堅持獨立自主、自力更生為指導方針。

改革開放開啟國門，頹廢的經濟得以重新啟航。很多外企引入國內，帶來很多先進技術，出資源、出廉價勞動力就可以實現經濟發展。又加上造不如買的風氣盛行，很多企業失去了獨立自主、自力更生的發展方針，導致二十多年的成果成為泡影。例如武漢無線電元件三廠一直堅持光刻機研發，由於大環境的影響之後破產也轉行業，主要經營副食品、百貨等。

中國的光刻機起步不算晚，在六七十年代，電子工業、半導體工業落後於美，與日韓臺幾乎同一層次。後來由於大環境的影響，及過於依賴進口。例如後來的晶片幾乎依賴進口，進口晶片的錢比進口石油還多，這幾年華為的崛起，稍有改變的勢頭，又被打壓，覺醒之時一晃而過二十多年。

之前能取得優越成績，是國家牽頭集中力量辦大事。後期由於大環境的影響，企業紛紛轉向賺錢很快的行業，投資週期短，回報更快。像臺積電、阿斯麥是企業牽頭，國家扶持，集中歐美力量辦大事，兩位八十年代的新秀成為如今的扛把子。

雖然落後二十多年，但絕地反擊是指日可待，畢竟是有基礎在哪裡擺著。例如紫外光刻機研製可能耗時長，但是在06年就把紫外光技術列入《極大規模積體電路製造技術及成套工藝》專案，此專案有16個重大專項，其中紫外光刻技術被列為第二項，說明國家高度重視。

雖然覺醒晚了些，技術差、基礎薄弱，但是有政府牽頭，秉承集中力量辦大事的優良傳統，堅持獨立自主，自力更生的優良作風，假以時日，定能追上甚至超越。

中國研製光刻機起步晚的原因是多方面:近代科技革命主要都發生在國外，引入國內需要一段時間，客觀上起步就已經落後了；在差距較大的情況下，普遍認為造不如買，買不如租，也就是所說的貿工技，這個研發代價一般企業擔不起，時間也耗不起。

資訊通訊技術的軟硬體基礎基本上都是在歐美建立起來，包括基礎理論，初創產品，他們是先行者，客觀上就有了先發優勢。

引入國內的契機往往是在外留學或有國外高科技企業工作背景的人，由他們這些有識之士將新科技的火種帶回來，這個時間往往在國外技術已經發展了少則十年這樣的時間跨度。

在不具備基礎理論的優勢下，這個起點就比較低了，因此步子比較也是情理之中。

因此我們有必要更加重視交流和合作，在自主創新之餘，還要及時引進國外先進技術來發展。

在那個落後的年代，面對最新技術的巨大差距，沒有什麼人有從零開始的勇氣，急功近利的思想佔了上風，於是就實行造不如買，買不如租的方式來進行發展。

最典型的莫過於聯想的柳傳志，直接廢掉了倪光南的技工貿路線，讓倪光南造晶片和研發作業系統的夢想落空。

轉而實行柳傳志賦予聯想的貿工技路線。雖然今天聯想成為世界500強，但其2019年的3500億營收，僅僅不到2%的利潤，讓人汗顏，大頭全部被造芯和提供系統的美國公司賺走。

這還不說，並且隨時有被卡脖子而消亡的可能。但他們不以為意，還打著科技無國界的幌子，將5G投票給高通，讓華為陷入被動。

正是因為這些底層技術沒人去做，導致更有難度的光刻機越加遲緩，其差距短時間再難彌補。

小結:如果繼續堅持在國外路線上進行光刻機的研製，恐怕會長期落後；唯一的希望在於有新技術的出現，替代光刻機的功能，才有希望抹平差距。