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1 # 純鈞RHGL
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2 # 快樂使用者天長地久
都不難，因為中國技術人才儲備已雄厚，但要組織好發揮好他們的能動性，並且一步一個腳印向前發展創新，首先是仿製（即山寨），熟練了就製造，精通了就創造。這是一個系統工程，不可能一步登天，持之以恆，中國在這些領域將能登天的高度。
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3 # Dsinij
英特爾用了多少年到現在的水平，那麼✖️3差不多到英特爾起點，前提是先有光刻機，兩件事可以一起做，而且必須做，而且玩命也要做。
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4 # 講理獎勵
現在很難再看到兩彈一星那批專家的奉獻精神，在吃住穿都極端困難的條件下，那批科技人員，咬著牙，賭著氣，用原始計算手段，硬是把成果擺在了全華人民面前。現在的科技人員，都是享受型的，要地位，講待遇，誰還能耐得住寂寞，專心攻關搞科研。院士不少，博士生不少，科研院所不少，成果呢？
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5 # 厶利
頂級光刻機是前提，是高效能CPU的母機，而CPU的設計、矽圓以及切片、拋光、光刻膠、後面的封裝檢測國內都有解決方案。
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6 # 人有多大膽地有多大產
俗話說外行看熱鬧，內行看門道。造頂級cpu與最頂級光刻機的難度是國際只知的，兩者之間以中國目前的水平造頂級cpu的條件有利。相信在不久的將來，隨著國家對科研資源的大力支援，我們不止會製造頂級cpu和頂級光刻機，還有更多的頂尖科技會被一一攻擊和利用。
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7 # 科技之重
晶片還有好幾種呢，如量子晶片，光子晶片，碳基晶片，矽基晶片。
就目前來看，如果不以商業化為目地的話，在這幾種晶片中，最頂級的應該就是量子晶片。
若以商業化為目地的話，那麼最頂級的晶片就是矽基晶片。
目前來說，可商用的最頂級的CPU也就是矽基晶片，其最高的製程工藝為4奈米。主要的產品有高通的驍龍8gen1，聯發科的天璣9000。
最頂級的光刻機，每小時可以處理200片晶圓，且最高製程工藝下探到了4奈米。這就是ASML生產的NXE:3600D第三代極紫外EUV光刻機。
無論是驍龍8gen1，還是天璣9000，都是由ASML生產的極紫外EUV光刻機生產的。也就是說，在以商業化為目地的前提條件下，晶片必須得有光刻機生產。從這個角度來看的話，從中國目前的實力出發，無疑是生產出頂級的晶片更為困難，畢竟先有光刻機後有晶片。現在的狀況是無法制造出頂級的光刻機，那麼就無法生產處出頂級的晶片。
如果不以商業化為目的話，那就是製造出最頂級的光刻機更難。
中國晶片和光刻機的現狀目前來看，中國最為頂級的光刻機的製程工藝依然停留在90奈米，具體產品是DUV步進投影式光刻機。
而光刻機最重要的三大部件是光源，物鏡，工件臺。
至於晶片的話，國內應該是可以設計出製程工藝為4奈米的頂級晶片，但是生產不出來。而以現在的技術可以拿出來的晶片，其製程工藝最高的為14奈米。不過呢，製程工藝為5奈米的麒麟9000也算是頂級的晶片，與驍龍8gen1和天璣9000相比，效能也不差多少。
根據對比的結果來看，在光刻機上:90奈米→4奈米。而國際上早在1991年，就研製出了製程工藝涵蓋90奈米的，DUV步進投影式光刻機，距今已有31年。而國內至今還沒有製程工藝超過90奈米的光刻機。
在晶片上:14奈米→4奈米。而國際上在2014年，由英特爾生產出了Broadwell桌面級晶片，距今已經有8年了。而國內可以生產14奈米晶片是在2019年，距今才有3年。
也就是說，在頂級光刻機上，與國際頂尖水平差了31年。在頂級晶片上，與國際頂尖水平差了5年。
這樣來看的話，國內與國外還是光刻機的差距比晶片大得多。所以說，研發出世界頂級的光刻機的難度更大。
頂級的晶片眾所周知，矽基晶片的效能與製程工藝有較大的關係。往往是，製程工藝越小，晶片內部就可以整合更多的電晶體，同時呢，晶片產生的熱量越少，處理速度就越快。這也是，晶片生產廠家不遺餘力追求更小製程工藝的根本原因。
而如今，驍龍8gen1和天璣9000的製程工藝都達到了4奈米。驍龍8gen1晶片的電晶體密度為1.67億個/平方毫米，而總的電晶體數量超過120億個。
天璣9000晶片的電晶體密度大於1.71億個/平方毫米，一共集成了超過153億個電晶體。
目前來看，國內最為頂尖的手機端晶片就是麒麟9000。該晶片採用了臺積電5納米制程工藝，集成了153億個電晶體。
經過多方的評測，得出來以下的結果。麒麟9000晶片的能耗，功耗，CPU多核效能要比驍龍8gen1要強一些。
所以說，麒麟9000是可以媲美驍龍8gen1的。
當然了除了頂級的矽基晶片之外，中國的量子晶片或者量子計算機的實力也極為強大。
已經研發出的量子計算機有“九章一號”，“九章二號”，“祖沖之一號”，“祖沖之二號”。
其中九章一號量子計算機在求解高斯玻色取樣數學問題的計算速度，比全球運算速度最快的超級計算機“富嶽”，還要快上100萬億倍。而九章二號量子計算機的運算速度又比九章一號快了100億倍。
而九章量子計算機是由76個光子構建出來的，到了九章二號量子計算機，光子就增加到了113個，隨著光子數量的增加，九章二號量子計算機的效能就更強了。
不過，祖沖之號量子計算機中，含有56個量子位元，到了祖沖之二號，量子位元的數量就增加到了66個。
可以說，無論是九章，還是祖沖之。這兩個系列的量子計算機的效能，都可以邁入頂尖的量子計算機行列。而與之相類似的超級計算機有谷歌，IBM推出的量子計算機。
除了量子計算機之外，還有碳基晶片。碳基晶片主要是以“碳奈米管，石墨烯”等碳基材料為核心的晶片。相對於矽基芯來看，在理論上，碳基晶片有著1000倍的電子遷移效能，也就是有更高的傳輸速率，更低的成本，以及更低的功耗。目前已經有研究表明，同等工藝下的碳基晶片在效能方面遠超矽基晶片。
在碳基晶片技術上，中國在2020年，研製出了100多納米制程工藝的碳基晶片。目前正在攻克90納米制程工藝的碳基晶片。貌似美國並沒有拿出實物的碳基晶片，這樣來看的話，中國在碳基晶片的研究上走在了世界前列。
綜合來看，在矽基晶片，量子晶片，碳基晶片上。中國現有的產品與國際頂尖產品的差距並不是太大。只不過，以中國現有的技術，也就只有頂級的矽基晶片無法被生產出來，其他型別的晶片還是可以依靠國內的技術來實現的。
頂級的光刻機眾所周知，光刻機的最小製程工藝，直接決定了晶片效能的強弱。光刻機的製程工藝越小，那麼所生產出來的晶片的最小線寬就越小，同時晶片的效能也就越高。而光刻機的最小製程工藝，與光源和物鏡有絕對的關係。
比如說:ASML研發的極紫外EUV光刻機就使用了:cymer公司開發的光源，蔡司公司研發的反射鏡，ASML自研的雙工件臺。也就是在這至關重要的三大部件的加成下，才使得ASML研發的極紫外EUV光刻機，登上全球第一的寶座。由此可見，在光刻機的所有部件中，光源，反射鏡，雙工件臺起著決定性的作用。
其中Cymer公司，就是走了“鐳射等離子體”這條路子。具體的技術，就是利用二氧化碳鐳射器照射純錫液滴。而純錫液滴被加熱後，也就可以發出等離子體射線，這就是極紫外EUV光刻機的光源。看著原理是很簡單，但是要滿足極紫外EUV光刻機的要求可相當不容易。
光源的功率要足夠高，只有經過轉化後中心焦點處的功率達到250W才可以滿足要求。這其中涉及到一個轉化率的問題，目前光源的轉化率都不高，如果要達到250W的中心焦點處的功率，那麼最初產生鐳射後的輸出功率也要在90KW左右。要讓鐳射的功率達到90KW，那難度可真的是太大了。也只有光源的功率達到要求之後，才可以全速曝光晶圓。僅僅是提高EUV光源的功率，Cymer公司就用了17年的時間。從1997年開始研究EUV光源，到2014年製造出功率達到250W的EUV光源。
反射鏡
在ASML生產的極紫外EUV光刻機中，蔡司公司研發的多片反射鏡也極為重要，因為從光源發射出來的極紫外光，要經過反射鏡的反射後，最終到達需要被曝光的晶圓上。這就要求反射鏡的表面相當的光滑，儘量減少光源不必要的損耗。
而反射鏡的表面鍍了80層堆疊的鉬和矽薄膜，其中鉬的厚度為2.8奈米，矽的厚度為4奈米。每層都必須極為的光滑，誤差只允許一個原子大小。也正是這樣高難度的加工條件，使得極紫外EUV光刻機的所需要的反射鏡的製造難度極大。
雙工件臺
在ASML公司生產的極紫外EUV光刻機中，其雙工件臺就是由ASML自家制造的，其運動誤差保持在1.8奈米。而雙工件臺的製造，與精密控制，高精度測量，精密加工是分不開的。也只有掌握了這些頂尖的技術，才可以製造出雙工件臺。
中國EUV光源，反射鏡，雙工件臺的進展。迄今為止，並沒有中國研製出以上三大部件的訊息出現。也就是說，在2014年Cymer公司研發出EUV光源之後的8年內；在2013年蔡司公司研發出反射鏡之後的9年內，中中國產極紫外EUV光刻機依然沒有可用的部件。這樣的差距，還真的是很大啊！
所以說，在頂級晶片和頂級光刻機上，無疑是頂級光刻機的難度更大。
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8 # 成大大旅行記
我粗淺看法，CPU設計是人設計的，硬體是人造的，首先材料夠嗎？夠了是前提，那就算光刻機來造。那光刻機是人設計的，硬體也人造的，首先材料夠嗎？不夠就難！所以確定誰難造？就看哪個材料難找，從目前來看，光刻機所欠東風更多點！說得對點個吧！
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9 # 宋哥解惑
最頂級的CPU早就造出來了：
手機上的是華為的麒麟9000，
超級計算機上的是神威、飛騰……
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電腦上的AMD也是中國臺積電造的。
最頂級的光刻機，還很遠
回覆列表
那肯定是CPU。因為這玩意是否頂級不僅靠技術，而且靠運氣。
光刻機是幹什麼的？就是用來生產晶片的，CPU也是一種晶片。
所謂光刻，就是把晶片製作所需要的線路與功能區做出來。在製造晶片時，會先在晶圓的表面覆蓋上一層光刻膠，再用光線透過掩模板照射矽片的表面。此時光感膠受到光線的刺激會發生溶解，進而自行形成電路。
它的難點在於，一要頂級的光源來刻，這就需要背後有複雜且強大的光學系統裝置進行支援；二是機械精度，維持足夠的精度，就需要配合無數的感測器進行調整。
所以，關鍵點就是兩方面：光學系統裝置，感測器。
簡單說吧。光刻機就相當於廚具，CPU就是使用廚具烹飪出來的菜餚之一。CPU這東西解釋起來就容易了。
比如說我們用的電腦，CPU有I7的，I5的，其實，這兩款CPU總的來說是一樣的。
那為什麼會有I7、I5之分呢？
原因也很簡單。同一批CPU，質量更好的就是I7，質量差點的就是I5。“量產”造就了這種差異。
或者用打靶來比喻。你校一百飛，不可能全部打中紅心吧？那麼，10環的就是I7，8環的就是I5。但是，10環也不是滿環，你還能打出10.9環來呢。
10.9環靠什麼？那就不僅靠技術了，也要靠運氣。
造光刻機，技術到位了，自然就造得出來。但是技術到位不代表運氣也到位。I5和I7的技術是同等級的。你技術到位你可能造出一堆I5，那跟I7怎麼比呀？何況I7也不是最好的，頂級之上覆有頂級，這玩意就純靠蒙，靠運氣。
甭管幹什麼，一旦靠運氣，這事就特別沒譜。有的時候你可以靠運氣成功，但如果運氣不好，技術無的放矢，那是最窩火的事了。