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1 # 一滴水79082903
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2 # 使用者9149953980
在高摻雜濃度的情況下,因勢壘區寬度很小,反向電壓較大時,破壞了勢壘區內共價鍵結構,使價電子脫離共價鍵束縛,產生電子-空穴對,致使電流急劇增大,這種擊穿稱為齊納擊穿。如果摻雜濃度較低,勢壘區寬度較寬,不容易產生齊納擊穿。 齊納擊穿一般發生在摻雜濃度較高的PN接面中。這是因為摻雜濃度較高的PN接面,空間電荷區的電荷密度很大,寬度很窄,只要加很小的反向電壓就能夠建立起很強的電場,發生齊納擊穿。
pn結一般摻入三價和五價的原子素,所以其他的不摻入。
半導體的摻雜,以矽為例。一般摻入三價的原子(如硼)使之成為P型半導體,或摻入五價的原子(如磷)使之成為N型半導體。
從導電原理上講,分別摻入低於三價的原子,或摻入高於五價的原子,也是可行的。為何不如此的主要原因是:要最大限度地保持原來單晶結構的完整性。
往矽中摻雜,是替位式摻雜,摻入的原子要取代矽原子的位置。為保持晶體的完整,儘量減少晶體缺陷的產生,所以摻雜原子要選擇大小與矽原子相差不大的原子為主。三價原子和五價原子就最合適。