1)一片表面光滑,沒有任何雜質的玻璃,是製造TFT玻璃基板最主要的原料。在製作之前,需用特殊的冼淨液,將玻璃洗得乾乾淨淨,然後脫水,甩幹。
2)要使玻璃基板鍍上金屬薄膜,需先將金屬材料放在真空室內,讓金屬上面的特殊氣體產生電漿後,金屬上的原子就會被撞向玻璃,然後就形成一層層的金屬薄膜了。
3)鍍完金屬膜後,我們還要鍍上一層不導電層與半導電層,在真空室內,先將玻璃板加溫,然後由高壓電的噴灑器噴灑特殊氣體,讓電子與氣體產生電漿,經過化學反應後,玻璃上就形成了不導電層與半導體層。
4)薄膜形成後,我們要在玻璃上製作電晶體的圖案。首先,要進入黃光室噴上感光極強的光阻液,然後套上光罩照射藍紫光進行曝光,最後送到顯影區噴灑顯影液,這樣可以去除照光後的光阻,還可以讓光阻層定型哦。
5)光阻定型後,我們可用蝕刻進行溼式蝕刻,將沒有用的薄膜露出,也可用電漿的化學反應進行乾式蝕刻,蝕刻後再將留下的光阻以溜液去除,最後就產生電晶體所需要的電路圖案了。
6)要形成可用的薄膜電晶體,需要重複清洗,鍍膜,上光阻,曝光,顯影,蝕刻,去光阻等過程,一般來說,要製造TFT-LCD,就要重複5到7次。
1)一片表面光滑,沒有任何雜質的玻璃,是製造TFT玻璃基板最主要的原料。在製作之前,需用特殊的冼淨液,將玻璃洗得乾乾淨淨,然後脫水,甩幹。
2)要使玻璃基板鍍上金屬薄膜,需先將金屬材料放在真空室內,讓金屬上面的特殊氣體產生電漿後,金屬上的原子就會被撞向玻璃,然後就形成一層層的金屬薄膜了。
3)鍍完金屬膜後,我們還要鍍上一層不導電層與半導電層,在真空室內,先將玻璃板加溫,然後由高壓電的噴灑器噴灑特殊氣體,讓電子與氣體產生電漿,經過化學反應後,玻璃上就形成了不導電層與半導體層。
4)薄膜形成後,我們要在玻璃上製作電晶體的圖案。首先,要進入黃光室噴上感光極強的光阻液,然後套上光罩照射藍紫光進行曝光,最後送到顯影區噴灑顯影液,這樣可以去除照光後的光阻,還可以讓光阻層定型哦。
5)光阻定型後,我們可用蝕刻進行溼式蝕刻,將沒有用的薄膜露出,也可用電漿的化學反應進行乾式蝕刻,蝕刻後再將留下的光阻以溜液去除,最後就產生電晶體所需要的電路圖案了。
6)要形成可用的薄膜電晶體,需要重複清洗,鍍膜,上光阻,曝光,顯影,蝕刻,去光阻等過程,一般來說,要製造TFT-LCD,就要重複5到7次。