矽與空氣的反應

矽塊的表面受到非常薄的二氧化矽SiO2層的保護。這使矽或多或少地對甚至在高達約900℃的空氣進一步氧化呈惰性。此後，與空氣中的氧氣反應生成二氧化矽。在高於約1400°C的溫度下，矽與空氣中的氮N2和氧氣發生反應，形成氮化矽SiN和Si3N4。

Si+O2（g）→SIO2

2Si（S）+ N2（g）→2SiN（S）

3Si（s）+ 2N2（g）→Si3N4（s）

矽與水的反應

矽塊的表面容易形成二氧化矽保護膜。這使得矽很難與水反應。

矽與鹵素的反應 矽與所有鹵素劇烈反應形成四鹵化矽。因此，它與氟，氯，溴和碘反應，分別形成氟化矽（IV），氯化矽（IV），溴化矽（IV），和碘化矽（IV）。與氟的反應在室溫下佔地方，而其他反應則需要加熱到300°C以上。

Si+ 2F2（l）→SiF4（g）

Si+ 2Cl2（l）→SiCl4（g）

Si+ 2Br2（l）→SiBr4（l）

Si+ 2I2（l）→ SiI2

矽與酸的反應

矽在正常條件下不會與大多數酸反應，但會被氫氟酸HF溶解，這種反應顯然是由氟化Si（IV）配合物[SiF6] 2-的穩定性所致。

Si（s）+ 6HF（aq）→[SiF6] 2-（aq）+ 2H +（aq）+ 2H2（g）

矽與鹼的反應

矽受到鹼（例如氫氧化鈉水溶液）的侵蝕，生成矽酸鹽，這是一種高度複雜的物質，含有陰離子[SiO4] 4-。

Si（s）+ 4NaOH（aq）→[SiO4] 4-（aq）+ 4Na +（aq）+ 2H2（g）