中國有五大光刻機廠。

1.上海微電子裝備有限公司（SMEE）

上海微電成立於2002年3月，是中國國內唯一能夠做光刻機的企業。上海微電已經量產的光刻機中，效能最好的是SSA600/200工藝，能夠達到90nm的製程工藝，相當於2004年奔四CPU的水平。因此，國內晶圓廠所需要的高階光刻機完全依賴進口。

目前，最先進的光刻機是ASML的極紫外光刻（EUV），用於7nm、5nm光刻技術，對於EUV光刻關鍵技術，國外進行了嚴重的技術封鎖。中國在2017年，多個科研單位合作經過7年的潛心鑽研，突破了EUV關鍵技術。根據相關資料披露，計劃2030年實現EUV光刻機中國產化。

上海微電子裝置公司已生產出90奈米的光刻機裝置，這也是生產中國產光刻機的最高技術水平，比ASML公司差不多有10年的差距。因為西方國家有籤協議，晶片核心部件材料不能出口到中國，實施封鎖政策，導致中國產光刻機發展緩慢，上海微電子克服困難自己生產這些零部件。目前生產出來的光刻裝置已用到很多的中國產企業中，而且國家也在對封鎖進行聯合公關，相信不久就可以向45nm、28nm邁進。

2.中科院光電所

中科院光電所研發出365奈米波長，曝光解析度達到22奈米的光刻機，是近紫外的光線，離極紫外還有一點差距。光刻機的波長決定了晶片工藝的大小，波長越短，造價越高。像ASML最先進的EUV極紫外光刻機，波長只有13.5奈米，可以生產10nm、7nm的晶片。現在一般使用的是193奈米波長的光刻機，解析度卻只有38奈米，而中科院研發的光刻機採用了雙重曝光的技術，可以達到22奈米。不過相關專業人士也指出，這種技術只能做短週期的點線光刻，無法滿足晶片的複雜圖形，後續還在不斷最佳化和改進中。

3.合肥芯碩半導體有限公司

合肥芯碩半導體有限公司成立與2006年4月，是國內首家半導體直寫光刻裝置製造商。該公司自主研發的ATD4000，已經實現最高200nm的量產。不過按照目前最新訊息其已經申請破產清算，主要是光刻機對研發的投入資金是在太大，又沒有成熟的產品面向市場，終究難免面臨倒閉的風險。上海微電子也是透過快速佔領光刻後道工藝技術，迅速佔領國內80%市場份額，才得以生存。

4.無錫影速半導體科技有限公司

無錫影速成立於2015年1月，影速公司是由中科院微電子研究所聯合業內子資深技術團隊、產業基金共同發起成立的專業微電子裝備高科技企業。該公司已經成功研製用於半導體領域的鐳射直寫/製版光刻裝置，已經實現最高200nm的量產。

5.先騰光電科技有限公司

先騰光電成立於2013年4月，已經實現最高200nm的量產，在2014國際半導體裝置及材料展覽會上，先騰光電亮出了完全自主智慧財產權的LED光刻機生產技術。

以上就是目前中國曾經或者現在還在研發光刻機的企業，在高階光刻機領域，中國的技術仍然比較薄弱，中國光刻機領域能拿的出手的還是隻有上海微電子裝備的產品，但是對比世界現金水平，還是遠遠落後，最先進的光刻機已經進入到了7nm，5nm的階段，臺積電靠著7nm的光刻機在製造環節做的風生水起。

中國光刻機廠只有一個

中國能製造光刻機的只有上海微電子一家，也是全球四家之一。而為其提供部件的有若干家，科益虹源：248nm準分子鐳射器、乾式193nm準分子鐳射器、侵沒式193nm準分子鐳射器，福晶科技：KBBF晶體，中科院：40瓦乾式準鐳射光源，長春國科精密：90nmEUV鏡頭、高階光刻機曝光光學系統、日盲紫外探測模組、高階光學檢測產品，長春光機所：32nmEUV鏡頭，國望光學：90nm節點ArF光刻機曝光光學系統、110nm節點KrF光刻機曝光光學系統。