確實中芯國際研發的首臺。

中國中國產的晶片製造技術，仍大幅度落後於國際。由中芯國際研發的光刻機，還處於28nm工藝的水平，和國際主流的7nm工藝，還有很大的差距。預計在今年下半年開始，國際晶片製造將邁入5nm工藝時代。

至於網上流傳的中芯國際成功研製7nm光刻機，則沒有官方訊息的證明。但好訊息的是，近年來，中國開始重視晶片製造技術，傳聞華為已開始研究和生產光刻機，並且將採用更為先進的技術，在此也是希望華為能再次成功。

是真的。

光刻機，又名：掩模對準曝光機，曝光系統，光刻系統等，是製造晶片的核心裝備。它採用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形透過光線的曝光印製到矽片上。

中國很早就在研發光刻機，之前生產出來的只不過是低端的光刻機。2016年，上海光電就生產製造出了90奈米的光刻機，佔據著中國市場80%的份額，雖說低端，但滿足大多數需求是夠的。象尖端手機需要的晶片我們目前還被西方國家卡脖子。但在國家的大力支援下，在華人日夜的攻堅下，上海光電28奈米光刻機已研發成功，今年明年將量產。後續我們還將繼續突破。

2018年11月29日，國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”透過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22奈米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10奈米級別的晶片。

中國首臺光刻機造出來是真的。　國內首臺具有世界領先水平、擁有自主智慧財產權的無掩膜光刻機日前在合肥面世。由中國工程院院士張鍾華、葉聲華等專家組成的鑑定組在鑑定後認為，芯碩半導體(中國)有限公司的“光刻機”技術，填補了國內光刻機在該項領域的空白，並且在國際同類產品中處於先進水平。