飽和光電流的大小與入射光強度、頻率都有關。當入射光頻率不變時，飽和光電流的值與入射光強度成正比。原因很簡單，入射光強度與單位時間照射到金屬上的光子數成正比。

科學上把單位時間裡透過導體任一橫截面的電量叫做電流強度，簡稱電流，電流符號為I，單位是安培（A），簡稱“安”（安德烈·瑪麗·安培，1775年—1836年，法國物理學家、化學家，在電磁作用方面的研究成就卓著，對數學和物理也有貢獻。電流的國際單位安培即以其姓氏命名）。

  當光強一定時,飽和電流數值和頻率的關係說法一：頻率越大,飽和光電流數值越小。原因：光強一定,頻率大的光單位時間單位面積光子數較少,故出來的光電子數較少。說法二：頻率不同的光照射,飽和光電流規律比較複雜。

  頻率高的光子能把金屬表面深一些的電子激發出來,頻率低的光子則不能。另一方面,頻率高時,每秒鐘到達金屬表面的光子數將減小。因此,入射光強度一定、頻率變化時的情況比較複雜,一般要針對具體情況具體分析解決。