一、紫外光下光催化活性普遍大於可見光，很顯然是因為光強的問題.
紫外下，混相效果好，可見下單斜相效果好: 這可能是因為,
1）混相材料有可能在不同相之間形成了異相結, 由於不同相之間的微小的帶隙和導帶、價帶位置的不同， 在紫外光本徵激發時， 易進一步進行電荷的分離，從而促進光催化活性。你可以看看HRTEM確認異相結的構成， 並透過XPS， DRS， MOTT-SCHOTTKY等確定下不同相的能帶結構。如果條件允許，可以做些時間分辨光譜實驗。
２）可見光下單斜相效果好，可能是因為你的材料在可見光下不是帶隙的本徵激發，因此混相中激發的電子躍遷不到導帶位置，從而沒有異相結效果。因此，這時應該和材料本身的結構有關。
二、下面的內容是光催化氧化，主要從分類、原理、光源型別和特點這四個方面進行介紹。
光催化氧化的分類
根據不同的反應體系，光催化氧化可以分為均相和非均相光催化氧化。
均相光催化氧化以Fe2+（二價鐵離子）或Fe3+（三價鐵離子），以及H2O2（雙氧水）為介質，透過光-Fenton（芬頓）反應，產生反應活性極高的OH·（羥基）等自由基來氧化分解汙染物。
非均相光催化氧化則是採用TiO2（二氧化鈦）、ZnO（氧化鋅）等半導體催化劑，在光照條件下產生OH·（羥基）等自由基來氧化分解汙染物。
除了產生條件不同之外，這兩種催化氧化均涉及到羥基自由基的形成和氧化作用，這兩種反應均屬於高階氧化。
涉及到羥基自由基的氧化過程就稱為高階氧化（Advanced Oxidation Process，簡稱AOP）。廣泛的來說，某些羥基自由基可能起重要作用，但反應機理不明確的新型氧化過程，也是屬於高階氧化。
高階氧化中，羥基自由基的氧化還原電勢為2.8V，僅次於氟，所以幾乎能氧化所有的有機物。羥基自由基還會激發一系列的氧化反應，使有機汙染物分解的更加徹底。
均相光催化氧化中主要還是芬頓原理，就不過多的贅述了。下面的內容，我們就以非均相光催化氧化為例來進行介紹。
非均相光催化氧化原理
非均相光催化氧化過程中，需要用到半導體。半導體在能帶結構上具有價帶和導帶，兩者之間還存在一個禁帶。我們先看一下半導體催化劑在光照下的反應：

半導體催化劑在光照下的反應
當半導體受到太Sunny的照射時，半導體吸收一個能量大於禁帶的光子，就會把位於價帶的電子激發到導帶，價帶的電子躍遷後就會留下一個空穴，空穴則會與吸附在半導體催化劑表面的OH-反應生成羥基自由基。達到導帶的電子也會與水中的氧氣發生吸附反應，生成氧負離子的自由基。
這些自由基和空穴共同作用，對水中的有機物進行氧化，使其變為無害的無機物。
非均相光催化氧化光源
下面是幾種光催化劑的禁頻寬度：
常見的光催化劑的禁頻寬度
通常使用TiO2（二氧化鈦）作為歸催化氧化的催化劑，其禁頻寬帶一般為3.2eV。
自然光一般分為紅外光、可見光和紫外光，其中紫外光根據波長不同分為4個波段，從100~420nm，具體的可以看一下之前介紹過的《紫外線消毒工藝概述》中關於紫外線的相關介紹。
當採用TiO2（二氧化鈦）作為半導體催化劑時，只有當光的波長＜387nm時，才會產生足夠的能量使二氧化鈦的價帶電子發生躍遷，所以光催化氧化中，通常採用二氧化鈦+紫外光光源的組合，來激發產生羥基自由基。
一、紫外光下光催化活性普遍大於可見光，很顯然是因為光強的問題.
紫外下，混相效果好，可見下單斜相效果好: 這可能是因為,
1）混相材料有可能在不同相之間形成了異相結, 由於不同相之間的微小的帶隙和導帶、價帶位置的不同， 在紫外光本徵激發時， 易進一步進行電荷的分離，從而促進光催化活性。你可以看看HRTEM確認異相結的構成， 並透過XPS， DRS， MOTT-SCHOTTKY等確定下不同相的能帶結構。如果條件允許，可以做些時間分辨光譜實驗。
２）可見光下單斜相效果好，可能是因為你的材料在可見光下不是帶隙的本徵激發，因此混相中激發的電子躍遷不到導帶位置，從而沒有異相結效果。因此，這時應該和材料本身的結構有關。
二、下面的內容是光催化氧化，主要從分類、原理、光源型別和特點這四個方面進行介紹。
光催化氧化的分類
根據不同的反應體系，光催化氧化可以分為均相和非均相光催化氧化。
均相光催化氧化以Fe2+（二價鐵離子）或Fe3+（三價鐵離子），以及H2O2（雙氧水）為介質，透過光-Fenton（芬頓）反應，產生反應活性極高的OH·（羥基）等自由基來氧化分解汙染物。
非均相光催化氧化則是採用TiO2（二氧化鈦）、ZnO（氧化鋅）等半導體催化劑，在光照條件下產生OH·（羥基）等自由基來氧化分解汙染物。
除了產生條件不同之外，這兩種催化氧化均涉及到羥基自由基的形成和氧化作用，這兩種反應均屬於高階氧化。
涉及到羥基自由基的氧化過程就稱為高階氧化（Advanced Oxidation Process，簡稱AOP）。廣泛的來說，某些羥基自由基可能起重要作用，但反應機理不明確的新型氧化過程，也是屬於高階氧化。
高階氧化中，羥基自由基的氧化還原電勢為2.8V，僅次於氟，所以幾乎能氧化所有的有機物。羥基自由基還會激發一系列的氧化反應，使有機汙染物分解的更加徹底。
均相光催化氧化中主要還是芬頓原理，就不過多的贅述了。下面的內容，我們就以非均相光催化氧化為例來進行介紹。
非均相光催化氧化原理
非均相光催化氧化過程中，需要用到半導體。半導體在能帶結構上具有價帶和導帶，兩者之間還存在一個禁帶。我們先看一下半導體催化劑在光照下的反應：

半導體催化劑在光照下的反應
當半導體受到太Sunny的照射時，半導體吸收一個能量大於禁帶的光子，就會把位於價帶的電子激發到導帶，價帶的電子躍遷後就會留下一個空穴，空穴則會與吸附在半導體催化劑表面的OH-反應生成羥基自由基。達到導帶的電子也會與水中的氧氣發生吸附反應，生成氧負離子的自由基。
這些自由基和空穴共同作用，對水中的有機物進行氧化，使其變為無害的無機物。
非均相光催化氧化光源
下面是幾種光催化劑的禁頻寬度：

常見的光催化劑的禁頻寬度
通常使用TiO2（二氧化鈦）作為歸催化氧化的催化劑，其禁頻寬帶一般為3.2eV。
自然光一般分為紅外光、可見光和紫外光，其中紫外光根據波長不同分為4個波段，從100~420nm，具體的可以看一下之前介紹過的《紫外線消毒工藝概述》中關於紫外線的相關介紹。
當採用TiO2（二氧化鈦）作為半導體催化劑時，只有當光的波長＜387nm時，才會產生足夠的能量使二氧化鈦的價帶電子發生躍遷，所以光催化氧化中，通常採用二氧化鈦+紫外光光源的組合，來激發產生羥基自由基。