荷蘭晶片光刻機制造商阿斯麥（ASML）的兩位專家，Erik Loopstra 和俄羅斯裔荷蘭人Vadim Banine

1947年12月，大名鼎鼎的美國貝爾實驗室的肖克利（“電晶體之父”）、巴丁和布拉頓共同研製出了一種點接觸型的鍺電晶體！（三人因此獲得了1956年的諾貝爾物理學獎）

自此以後，光刻技術才有了發展的契機！

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1958年，德州儀器的傑克·基爾比（積體電路的兩位發明人之一）提出併發明瞭鍺基底擴散工藝的積體電路！（2000年，傑克·基爾比因積體電路的發明被授予諾貝爾物理學獎，這是一個“遲到”了42年的諾貝爾物理學獎）

如果沒有傑克·基爾比，就很難有如今的半導體產業盛況，電腦、手機等電子產品不知道牛年馬月才能進入每一個家庭！

1959年，快捷半導體的羅伯特·諾伊斯（英特爾創始人之一）發明了矽基底平面工藝的積體電路！

由於矽積體電路變成了積體電路市場的主流，羅伯特·諾伊斯與傑克·基爾比，一起被譽為“積體電路之父”！

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1956年，美國貝爾實驗室用電晶體代替電子管，製成了世界上第一臺全電晶體計算機！

隨後，快捷半導體研製出了世界上第一個適用單結構矽晶片。

20世紀60年代，快捷半導體提出了CMOS IC（積體電路）製造工藝；

IBM研製出了第一臺IC（積體電路）計算機IBM360；

美國GCA公司（美國地球物理學公司）開發出了光學圖形發生器和分佈重複精縮機！

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20世紀70年代，GCA開發出第一臺分佈重複投影曝光機（光刻機）！

20世紀80年代，SVGL（美國矽谷集團光刻系統公司）開發出了第一代步進掃描投影曝光機（光刻機）！

1995年，日本佳能Cano研製出了300mm晶圓曝光機（光刻機）！

隨後，阿斯麥ASML推出步進掃描曝光機（光刻機），採用的是193nm的波長！

2012年，為了推進EUV極紫外光刻機等先進裝置的研製，阿斯麥ASML推出了“客戶聯合投資專案”，英特爾、臺積電、三星成為了股東，分別持有15%、5%、3%左右的股權！

尼埃普斯

1822年法華人Nicephore niepce(尼埃普斯)發明了光刻機,起初是Nicephore niepce發現了一種能夠刻在油紙上的印痕,當其出現在了玻璃片上後,經過一段時間的暴曬,透光的部分就會變得很硬,但是在不透光的部分可以用松香和植物油將其洗掉。