你知道嗎，中國研製光刻機的時候ASML還沒有出生呢！！！

這家公司是荷蘭ASML公司 (中文名： 阿斯麥爾、艾司摩爾），公司的註冊標識為：ASML Holding N.V。

ASML最新的極紫外光（EUV）光刻機也不是1億歐元一臺，而是0.8-1億美元，當初中芯國際向荷蘭ASML公司定製了一臺7nm工藝的EUV光刻機，預交了1.2億美元的定金，直到如今也是杳無音信。

▲荷蘭艾恩德霍芬——ASML總部

那麼一臺光刻機為什麼賣這麼貴呢？要知道一臺波音737客機官方報價8000萬美元，打折拿到手大概5000萬美元，中國的殲10戰鬥機大概5000萬美元一架，俄羅斯的蘇35戰鬥機大概8000多萬美元，就算美國的第四代戰鬥機F-35也沒到1.2億美元啊，原因如下！

1.物以稀為貴，EUV光刻機很少，2019年ASML共交付26套EUV光刻機，佔淨系統銷售額的31%，約27.89億歐元（約214.26億人民幣）。

2.製造難度高，光刻機大概分三類紫外光（UV）、深紫外光（DUV）、極紫外光（EUV），其他的基本上都被淘汰了，其中極紫外光（EUV）最先進，10nm及以下的晶片都得靠它！

EUV光刻機最關鍵的零件之一，是由德國蔡司生產的反射鏡，得做到史無前例的完美無瑕，瑕疵大小僅能以皮米計算（1000皮米 = 1奈米）。

ASMLQuattroporte暨執行長溫彼得說過，如果把反射鏡面積放大到一個德國大小，那麼最高的突起不能超過一公分，這工藝要求堪稱變態。

3.製造成本高，製造難度高了成本自然也就上去了，而且光刻機也不是由ASML一家公司生產的，不同的零部件由不同國家生產，最後由ASML負責組裝測試，當然核心技術由ASML掌握。

4.競爭對手少，光刻機只有少數國家能夠製造，國外主要是荷蘭ASML、日本尼康和佳能，尼康和佳能主要是中低端光刻機，高階光刻機只此一家別無分店。

說了這麼多？中國的光刻機產業怎麼樣呢？

說實話，四個字：不容樂觀！

最近美國對華為的圍追堵截，其實就是對中國晶片產業的打壓，別人不賣但是又不能沒有，沒辦法只能自己造，但是高階光刻機被稱為“現代工業之花”，和頂級航空發動機一樣是現代人類工業的最高象徵，當初研發的時候連ASML都差點堅持不下去，還是臺積電、三星等幾大晶片製造廠商不惜血本地注資才搞出來，說白了就是活生生用幾十上百億美元砸出來的，這還是在ASML有經驗、有能力的情況下，所以說句不好聽的喪氣話，中國近10年之內是搞不出高階光刻機的（但是希望祖國能狠狠地打我臉！！！）。

可是誰又知道，中國半導體行業包括光刻機的起步是很早的！！！在上個世紀70年代，中國光刻機的研究一度領先國外，那時候ASML都還沒有出生，日本的尼康還在我們屁股後面，和世界第一差距也就四五年，可惜國家沒有重視，再加上光刻機的研發很費錢，於是計算所正式撤消了大規模積體電路研究室，導致現在和國外先進水平差了二三十年！

▲JKG-3型光刻機研製成功，之後還有不同的新型號

說了過去說現在，差距肯定是有的而且不小，但是中國自古以來就是一個充滿奇蹟的國家，我相信一臺光刻機還堵不死中國的半導體行業，就算全堵死了，中國自己也能生產中低端光刻機，起碼能用能活嘛。

而且現在的晶片都是矽基晶片，就是用沙子做的，根據摩爾定律製程再小也有極限，5nm、3nm、2nm之後就是極限，而下一代晶片的未來普遍認為是碳基，而中國在這一領域走在了前面，所以未來鹿死誰手還未可知，祖國加油！！！

拓展閱讀：2018年11月29日，國家重大科研裝備研製專案“超分辨光刻裝備研製”透過驗收。該光刻機由中國科學院光電技術研究所研製，光刻分辨力達到22奈米，結合雙重曝光技術後，未來還可用於製造10奈米級別的晶片。

荷蘭ASML阿斯麥爾公司，位於荷蘭的埃因霍溫，是全球著名的光刻機生產商；要說其厲害之處，就不得不提光刻機的重要性。

眾所周知，光刻機是生產手機晶片的必須裝置，而現在手機是人們日常生活中不可或缺的必備品，隨著手機行業競爭的不斷加大，手機生產商要想產出佔領市場的好手機，就不得不依靠先進的光刻機生產出先進的手機晶片。

荷蘭ASML的光刻機TWINSCAN系列是目前世界上精度最高，生產效率最高，應用最為廣泛的高階光刻機型，目前全球絕大多數半導體生產廠商，都向ASML採購TWINSCAN機型，比如英特爾（Intel）、三星（Samsung）、海力士（Hynix）、臺積電（TSMC）、中芯國際（SMIC）等，其全球光刻機市場佔有份額超過80%。

正因如此ASML才有勇氣將光刻機的價格一提再提，使其成為光刻機領域的全球霸主。