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1 # 使用者9327447810712
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2 # 清閒的海風e1
確實，中科院在2奈米晶片工藝的承載材料上獲得了突破，這個得到突破的東西叫垂直奈米環柵電晶體，是未來2奈米工藝上所有獲選材料的一種。
現在獲得突破的這個承載材料確實可以稱得上是一次突破，但是不是將來的2奈米晶片工藝中會使用這個承載材料，卻要看整個2奈米晶片工藝的環環相扣中有沒有它的位置了。
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3 # 烏拉城下的小草
是真的
中國中科院設計生產的14奈米晶片已將成功上市，並且實現了量產，更重要的是，在技術攻克這一方面，中國已經突破了2奈米晶片研究的技術壁壘。
中國2奈米晶片的關鍵技術得到了突破，這對於中國半導體領域來說是一大進步，更為自己在未來2奈米晶片佔領市場奠定了基礎，可以說中科院再立大功。
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4 # 煙花氣
是
是真的,中科院研發的叫做疊層垂直奈米環柵電晶體,可以用於2奈米以下工藝。不過,這只是一種電晶體結構,距離實際應用還有很長的距離。
在未來2奈米晶片工藝上也是如此，現在獲得突破的這個承載材料確實可以稱得上是一次突破，但是不是將來的2奈米晶片工藝中會使用這個承載材料，卻要看整個2奈米晶片工藝的環環相扣中有沒有它的位置了。
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5 # 拉個板車去西藏
是真的，中科院研發的叫做疊層垂直奈米環柵電晶體，可以用於2奈米以下工藝。不過，這只是一種電晶體結構，距離實際應用還有很長的距離。
我們知道，半導體晶片發揮作用的就是電晶體。晶片的的技術水平，一般也要看每平方毫米多少電晶體。例如，Intel的晶片，10奈米技術節點，電晶體密度達到了1億個電晶體，基本與三星的7奈米工藝相當，比臺積電的7奈米晶片還要高一點。
電晶體也是多種多樣的，以適應不同的無需求。每一種結構，各有特點，對晶片效能影響很大。例如，Intel的晶片廣泛使用的FinFET工藝，採用的是鰭式電晶體，這個技術已經被廣泛應用，在22、16、12、7等工藝節點上應用廣泛。各大廠商基本都用這個設計，中國中芯國際，在14奈米工藝上開始使用這一技術。
但是，半導體發展到5nm、3nm節點，原有的鰭式電晶體已經不能滿足需求了，就需要研發新型電晶體，來代替以前的設計方案。這些設計方案中，最有希望的GAA環繞柵極電晶體。據說，三星公司就計劃在3奈米技術節點使用GAA環繞柵極電晶體。而第一家使用鰭式電晶體的企業Intel在5奈米就轉向GAA技術。而臺積電，也要在3奈米或者2奈米節點轉向GAA技術。
具體到中國，就遇到麻煩了，美國已經嚴令GAA環繞柵極電晶體技術不得向中國提供。那麼，中國勢必要研發自己的技術應對。基本來說，中國是兩條腿走路，一方面，自己研發GAA 技術，中國的復旦大學就已經進行了驗證，已經可以發展出自己的技術。另一方面，研發自己的新型電晶體結構，這就是中科院研發的新型垂直奈米環柵電晶體，它被視為2nm及以下工藝的主要技術候選。
技術儲備有了，但是實現技術也是個難題，中國目前沒有極紫外光刻機，哪怕技術有了儲備，也要等製造裝置到位，這是個漫長的過程。
中科院攻克2nm晶片關鍵技術這件事是真的。
不過不用過於高興，因為該技術只是製造晶片眾多環節中的一個關鍵技術，嚴格來說它屬於晶片設計的範疇。不是說攻克了該關鍵技術很快就能製造出2nm晶片。相反，中國離製造出2nm晶片還很遙遠，還有很多難關要攻克，比如製造2nm晶片所需的光刻機丶光刻膠丶離子注入裝置等等。
中科院攻克的2nm晶片關鍵技術是指成功研發出了新型垂直奈米珊電晶體。這種新型電晶體被視為2nm及以下工藝的主要技術候選。該技術比之前三星宣佈的3nm工藝需要採用的GAA環繞珊極電晶體效能更強，功耗更低。
該技術的誕生說明中國的晶片設計能力己處於世界前列，跟世界頂尖國家基本上屬於同一個水平。
哎！看到標題很興奮，詳細瞭解後，難免還是有些失望！該技術就象你得到了宮庭秘傳胡辣湯中那幾片牛肉的做法秘訣，但是，湯中放什麼料以及配比的秘方還沒有，做胡辣湯的鍋丶碗丶勺丶瓢丶盆也沒有，只能吧噠吧噠嘴，把快流出的口水嚥了。
不過，隨著國家的大力支援，一個個象這樣的技術被攻克，我們總是離製造出高製程的晶片更近一步。
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6 # 流水何慚
是真的，中科院在2奈米晶片工藝的承載材料上獲得了突破，這個得到突破的東西叫垂直奈米環柵電晶體，是未來2奈米工藝上所有獲選材料的一種。但這一突破是不是最終會成為最後2奈米工藝中的一部分，就不好說了。
晶片生產環節眾多，並且是一環套一環。由於現在生產晶片的尺寸已經延展到奈米級，任何一個極其細微的差錯就會導致整個生產的前功盡棄。至此，在現代尖端晶片的生產中，就沒有什麼關鍵不關鍵之分，所有環節全是關鍵，而且這些所有的環節必須精密地配合在一起，才能生產出符合標準的晶片。
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7 # 借宿青山外
國內目前還做不到2nm光刻技術，目前能批次生產晶片的最先進光刻技術是臺積電和三星的5nm，而國內能做的只有28nm，相比於荷蘭阿斯麥生產的光刻機仍然落後好幾代，不過中國近幾年重視晶片製造業，光刻技術在不斷進步，相信有一天會趕超阿斯麥的
回覆列表
不可能。目前全球最先進的光刻機公司為荷蘭（其實是美國與歐盟多國合作的）的阿斯麥，也是能做出3nm的光刻技術，全球其他幾家光刻機大廠也在3nm到5nm之間的技術。11月份中芯國際曾驗收中國產第一臺28nm光刻機，結果驗收失敗。可想而知，國內的光刻機技術離國際頂尖水平還有很大距離。