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其實大陸是有光刻機的研發和生產機構的,只不過是沒有國外的先進製程,好像是在48奈米左右吧。
如果說光科技被國外完全禁用的話,那麼也就只能是死馬當成活馬醫,用落後的製程生產新的東西了。功耗和效能都會有一定的損失,但還不至於說不能用。
其實大陸是有光刻機的研發和生產機構的,只不過是沒有國外的先進製程,好像是在48奈米左右吧。
如果說光科技被國外完全禁用的話,那麼也就只能是死馬當成活馬醫,用落後的製程生產新的東西了。功耗和效能都會有一定的損失,但還不至於說不能用。
大家好,我是針灸推拿許大夫,我來回答一下這個問題。
大陸有自助光刻機嗎?華為有所行動嗎?
1.首先了解下光刻機(Mask Aligner)是製造微機電、光電、二極體大規模積體電路的關鍵裝置。其分為兩種,一種是模板與圖樣大小一致的contact aligner,曝光時模板緊貼晶圓;另一種是利用類似投影機原理的stepper,獲得比模板更小的曝光圖樣。高階光刻機被稱為“現代光學工業之花”,製造難度很大,全世界只有少數幾家公司能製造。中文名:光刻機
外文名:Mask Aligner
別名:掩模對準曝光機
光源波長
350 nm -450 nm
作用
用光製作一個圖形
概要
生產積體電路的簡要步驟:
利用模版去除晶圓表面的保護膜。
將晶圓浸泡在腐化劑中,失去保護膜的部分被腐蝕掉後形成電路。
用純水洗淨殘留在晶圓表面的雜質。
其中曝光機就是利用紫外線透過模版去除晶圓表面的保護膜的裝置。
一片晶圓可以製作數十個積體電路,根據模版曝光機分為兩種:
模版和晶圓大小一樣,模版不動。
模版和積體電路大小一樣,模版隨曝光機聚焦部分移動。
其中模版隨曝光機移動的方式,模版相對曝光機中心位置不變,始終利用聚焦鏡頭中心部分能得到更高的精度。成為的主流。
主要廠商
光刻機是生產大規模積體電路的核心裝置,製造和維護需要高度的光學和電子工業基礎,世界上只有少數廠家掌握。因此曝光機價格昂貴,通常在 3 千萬至 5 億美元。
ASML
尼康
佳能
歐泰克
上海微電子裝備
SUSS
ABM, Inc.
大陸的我也不知道怎麼說。也不知道該不該說。