納米光刻機是一種高精度的微納米加工設備，主要應用於芯片製造、光子學器件製造以及MEMS等領域。

納米光刻機是通過利用光學或電子束照射來制作微小結構的。在制作芯片時，它可以通過把圖形投影到硅片上來實現芯片模板的複製，從而實現集成電路的生產。在MEMS領域，它可以製造微型傳感器和執行器等微系統元件。

目前市場上最常見的納米光刻機採用投影式光刻技術，其中包括接觸式、非接觸式和半接觸式三種不同類型。接觸式是將掩模直接壓印在光刻膠上；非接觸式則是採用間隙層技術將掩模與光刻膠分隔開來；而半接觸式則是介於兩者之間，在掩模與光刻膠之間設置一個定量壓力的薄膜。

納米光刻機具有高分辨率、高精度、高通量和低成本等優點，因此已成為微電子領域中不可或缺的設備。

納米光刻機是一種專門用於生產微小電路的高精度光刻機。它可以在極短的時間內將微小的圖案投射到硅片上，從而製造出各種微型電子元件、芯片和半導體器件等。

沒有一納米光刻機。

通常說納米是芯片的柵極寬度，目前人類已經商用的芯片可以做到4納米。而光刻機的納米並非如此，目前最高端的荷蘭阿斯麥爾euv光刻機是13.5納米的極紫外光，像台積電、三星這樣的代工廠通過先進技術，用這個波長的極紫外光去刻制更寬度小於13.5納米的晶體管，比如5納米、4納米，但光刻機依然是13.5納米的。目前人類也沒能力做一納米光刻機。

進口荷蘭ASML公司的。

中芯國際14納米光刻機不是中國產的。而是進口ASML公司的DUV光刻機。據報道稱這條14納米制程工藝的生產線在2019年第三季度實現了量產，之後中芯國際南方廠將還建成兩條月產能均為3.5萬片的先進集成電路生產線。

有消息稱中芯國際14nm的良率高達95%，已追平台積電同等工藝。

分析人士認為中芯國際狀態回到被美拉黑前，基本可以完成產能擴張。