光刻機能刻光柵因為光刻機本身就有光柵功能。

光柵陣列像加工精度極高的銑削或鑽床一樣，可以不磨光完成製造。光刻機內由光刻模組和刻蝕模組兩部分組成，刻蝕模組是將傳統的光刻原理與現代材料加工結合在一起的完美設備。光刻機每一次製造的過程包括：光柵掃描、選擇性掃描和刻蝕三個過程。

光刻膠是電子領域微細圖形加工關鍵材料之一，是由感光樹脂、增感劑和溶劑等主要成分組成的對光敏感的混合液體。

在紫外光、深紫外光、電子束、離子束等光照或輻射下，其溶解度發生變化，經適當溶劑處理，溶去可溶性部分，最終得到所需圖像。 光刻膠作為技術門檻極高的電子化學品一直被國際企業壟斷。 隨著大力研發和投入， 國內企業已逐步從低端 PCB 光刻膠發展至中端半導體光刻膠的量產。

正性光刻膠也稱為正膠。正性光刻膠樹脂是一種叫做線性酚醛樹脂的酚醛甲醛，提供光刻膠的粘附性、化學抗蝕性，當沒有溶解抑制劑存在時，線性酚醛樹脂會溶解在顯影液中，感光劑是光敏化合物，最常見的是重氮萘醌（DNQ）。

在曝光前，DNQ是一種強烈的溶解抑制劑，降低樹脂的溶解速度。

在紫外曝光後，DNQ在光刻膠中化學分解，成為溶解度增強劑，大幅提高顯影液中的溶解度因子至100或者更高。

這種曝光反應會在DNQ中產生羧酸，它在顯影液中溶解度很高。

正性光刻膠具有很好的對比度，所以生成的圖形具有良好的分辨率。