ITO 導電玻璃是一種既透明又導電的玻璃,它採用磁控濺射沉積成膜技術,以 ITO 材料作為濺射靶材,在玻璃基板上生成一層很薄的 ITO 膜。這層 ITO 膜同時具有良好的導電性和透光性,適於制作透明顯示電極,是平板顯示器生產的重要原材料之一,玻璃基板的厚度通常只有0.3~1.1mm,它具有重量輕、透明度高、平整度高、有一定的機械硬度、容易切割加工等特點,因此被廣泛應用於平板顯示器上。

ITO 導電玻璃隨著20世紀70年代初 LCD 顯示器的興起至今已經歷了30多年的歷程 並從過去只能生產高電阻、小尺寸、普通表面、黑白顯示的產品,發展到了現在能夠生產低電阻、大尺寸、拋光表彩色顯示的產品。

1、ITO基板預處理

ITO作為陽極，通常是制作TFT背板的過程中已經成膜完畢。基板表面的平整度、清潔度都會影響有機薄膜材料的生長情況和OLED性能，因此必須對ITO表面進行嚴格清洗。

2、EL成膜

經過ITO基板預處理後製備OLED材料包括有機小分子、高分子聚合物、金屬及合金等。大部分有機小分子薄膜通過真空熱蒸鍍來製備，可溶性有機小分子和聚合物薄膜可通過更為簡單、快速和低成本的溶液法制備，先後開發出了旋塗法、噴墨打印、激光轉印等技術。金屬及合金薄膜通常採用真空熱蒸鍍來製備。下面重點介紹真空熱蒸鍍和噴墨打印兩種工藝。

（1）真空熱蒸鍍 ：指在真空中通過電流加熱、電子束轟擊和激光加熱等方式，使被蒸鍍材料蒸發成原子或分子，它們隨即以較大的自由程作直線運動，碰撞基片表面而凝結形成薄膜。蒸鍍成膜的具體位置由Fine Metal Mask（FMM，即高精細金屬掩模板）來進行控制。

蒸鍍工藝對真空度、成膜厚度、FMM對位以及物料傳輸過程中的雜質控制有嚴格要求。目前蒸鍍工藝在各種EL成膜方式中設備、技術成熟度最高，它可以用來製備注入層、傳輸層、發光層和陰極材料。它的缺點是成膜速度慢、有機材料利用率低、大尺寸成膜均勻性不佳。因此蒸鍍工藝主要用於中小尺寸的OLED器件製備。

（2）噴墨打印 ：指預先將各種不同的有機功能層材料製成墨水灌裝到墨盒，利用計算機將圖形信息轉化為數字信號，並控制噴嘴的移動和墨滴的擠出，墨滴噴射到相應位置形成所需圖案，從而實現精確、定量、定位沉積，完成最終的印製品。噴墨打印可用於製備空穴傳輸層、發光層以及陰極材料，其他膜層仍需借助蒸鍍工藝完成，全膜層噴墨打印技術正在研發中。與蒸鍍相比，噴墨打印工藝簡單，大幅提昇材料利用率，適用於製備大尺寸OLED器件。 未來，隨著打印技術的成熟和大規模應用，OLED的製造成本可大幅度降低