我們為什麼現在沒有世界頂級的光刻機企業，我覺得最主要的是因為西方技術的限制以及禁錮，其實對於光刻機技術，西方國家通過各種手段來阻止中國的發展，而像ASML一樣能夠成為世界頂級的光刻機企業，原因也相對比較複雜。

第一：ASML是在最好的時機，抓到了光刻機的契機，所以能夠迅速的超過日本的尼康，讓光刻機領域迅速的發展。

第二：獲得了眾多的科技類企業的加盟，比如說像英特爾，臺積電，三星等等，這些企業不但讓它獲得了客戶，也讓它獲得了資金的投入和支援。

第三：世界各地最先進的技術都會運用在阿邁斯的光刻機上，可以說阿邁斯的光刻機是世界化大生產的產物。

中國現在的上海微電子推出的是90奈米的光刻機，雖然我們知道，在未來可能會推出28奈米，但是和現在最先進的7nm EUV光刻機的距離還是有一些差距，我們需要做的是彎道超車，拋棄原有的光刻機的方法，我覺得才有可能成就中國的光刻機技術。

現在肯定有專業的研發團隊在全力以赴追趕！

即使有了專業團隊，困難還是有的，需要時間！

比如飛機用的噴氣發動機，我們的專業團隊可能隨著新中國誕生就建立了，70年過去了，現在還是有距離的。

光刻機的問題要飛機發動機的問題更嚴重，因為它是民用品，還要顧及到智慧財產權保護。比如說第五代光刻機是採用EUV以及反射鏡，這些都是有發明專利保護的。可以許可，也可以不許可，即使許可了也要支付費用。

晶片技術涉及到各個行業，是衡量一個國家的綜合工業化水平的產品，就像汽車工業是一個道理。做一臺汽車樣機比較容易，但是大批大量生產，還要控制住成本和質量，那就不簡單了，用市場換技術四十年，我們也沒完全掌握汽車技術，就是因為我們的工業化水平太低，不平衡，到處缺腿斷胳膊的。

像汽車一樣，光刻機和晶片不妨從中低檔晶片開始做起，畢竟晶片中絕大多數是中低檔晶片，在取得成功的基礎上逐步擴大範圍和提高檔次。如果一下子就瞄準做高檔的晶片，先不說成功需要多久，即使成功了，市場在哪裡？

如果行業一開始就盯住抵擋晶片，可能行業早就不是今天這個樣子了！

例如，小型智慧玩具的晶片，在專家眼裡簡直是小兒科，可是它給香港的企業帶來了天文數字的利潤！

路還是要一步一步地走，拔苗助長不可取！

放心吧！中國最好的東西不會現在爆光出來的！這也是一張大牌！當美國牌打出來了，我們才會打！美國現在只是亮出手段，並沒有打出來！大家等著吧！國家不會讓我們失望！如果哪天看到他們又賣給我們光刻機，就說明他們知道實際情況了，我們要主動亮牌了！

答案是有的

晶片加工其實是一個系統工程，其中光刻機的研製主要由各子系統及主系統整合幾個方面組成，中國在2002年推出的“十五”規劃中《國家科技16個重大專項》的（02專項）就是針對光刻機裝置的研發。並且為此專門組建了上海微電子裝備有限公司(SMEE)作為研發主力，並且把中電科45所有關光科技研發的技術團隊轉移到了上海。

同時各主要的子系統部分也分別委託國內相關領域的頂尖科研團隊參與集體研發。

極紫外光刻機（EUV）的研製主力研發單位是中國科學院長春光學精密機械與物理研究所（簡稱長春光機所）

光源部分：由哈爾濱工業大學方面負責，最近訊息DPP-EUV光源已經到了接近12* W的水平。

物鏡部分：北京某單位已經研發成功對應的大口徑光學鏡面超精密加工機床，相關樣機已經研製完成。

目前極紫外光刻機（EUV）樣機已經完成並通過了國家驗收，預計兩年內正式量產的樣機即將問世。

（畢竟長春光機所很早就是中國專業研究光刻機的科研單位，而且也是軍用衛星鏡頭的主要研究單位，光學實力還是有的，同時據說長春光機主導研發的軍用光刻機已經達到了28MN的加工精度，光機所控股的奧普光電就是以軍用晶片生產為主的企業，只不過軍用光刻機因為成本問題無法在民用領域進行推廣）

其中超精密光柵系統來自中國科學院上海光學精密機械研究所（中科院下屬專門從事鐳射專業的研究所，簡稱上光所）

光刻機物鏡組來自北京國望光學。（主要科研團隊來自於長春光機所旗下的長春國科精密光學技術有限公司，是中國唯一一家超精密光學系統產業化技術研發單位，並且已經與長春光機所和上海光機所達成了戰略投資。）

光源來自科益虹源。（是由亦莊國投、中國科學院光電院及微電子所、國科控股等共同出資設立，是具備專業高階準分子鐳射技術研究和產品化能力的企業）

浸液系統來自浙江啟爾機電。（公司前身是浙江大學流體動力與機電系統國家重點實驗室啟爾團隊，團隊先後承擔國家863計劃和國家02科技重大專項等科研專案30餘項。公司專注於光刻機浸沒系統及其衍生產品的研發，在流體精密測控、（泛）半導體制造以及超純工藝等方面擁有豐富的技術經驗）。

雙工件臺來自華卓精科。（由清華IC裝備團隊在清華大學及其下屬“北京-清華工業技術研究院”和02專項的支援下創立，是一家肩負著專項重大科研成果產業化重任的高新技術企業。華卓精科主要從事半導體制造裝備及其關鍵零部件研發、設計、生產、銷售與技術服務。）

上海微電子將於今年（2020年）12月下線首臺採用ArF光源的可生產11奈米的SSA800/10W光刻機(單次曝光28nm節點浸沒光刻機)，採用NA1.35透鏡組，並搭載超精密磁懸浮雙工件臺和超純水浸入系統。同時採用華卓精科工作臺的套刻精度指標優於1.7奈米。該光刻機有生產7nm製程的潛力（多次曝光）。

說句心裡話，中國科技人才缺乏工匠思維，許多東西很難有突破。

我們的學校都是培養讀書人的學校，都認為只有書本上的才是知識，只要讀書就什麼都能知道，就無所不能。這是一種沒有科學依據的，愚蠢的封建思想。

說明一點，我說的讀書不是指上學，也不是指教育。讀書就是抱著書本讀的意思。

我們必須要用科學的思維來弄清楚文字元號，和書本的作用。要弄清楚閱讀為什麼好，不要總是閉著眼睛，別人說好就說好。而且不要把讀書，和學知識，上學，教育混為一體。

我們缺乏從手上從小就開始的細緻地做，才能積累的知識和認識。這種知識和認識沒有文字描述，也沒有理論推導，就是靠積累。這是一種我們缺乏的智慧。因此，我們很難在各種發動機上獲得突破。在製造業上，我們在許多方面都有這種靠細緻入微地做才有的認識積累的缺失。

而且我們的社會習慣性地把靠手上技術做活的人，看得比靠完全讀書本出來的要低一等。雖然嘴上沒這麼說。

咱們國內的上海微電子和安芯半導體都已經研製併發貨了光刻機

上海微電子是咱們國內光刻機制造領域的龍頭企業，佔有國內光刻機市場的百分之七八十，並且還打開了國際市場發往海外！

2009年12月，上海微電子的首臺先進封裝光刻機產品SSB500/10A交付使用者！

2018年3月，上海微電子的90nm光刻機專案通過正式驗收！

如今，上海微電子研製的最新光刻機SSX600系列步進掃描投影光刻機，已經能夠滿足IC前道製造90nm、110nm、280nm關鍵層和非關鍵層的光刻工藝需求！

據悉，2018年上海微電子出貨光刻機50-60臺；預計2019年出貨光刻機不低於50臺…

不僅僅是上海微電子，福建安芯半導體已經先後出貨了2臺光刻機，中國產化率達到了60%左右！

……

上海微電子在低端光刻機市場，是超強級別的，但是卻一直未能擠進中高階光刻機市場！

全球高階光刻機市場完全由荷蘭阿斯麥ASML壟斷，因為只有阿斯麥ASML搞定了EUV光刻機；想要生產/代工7nm製程及更先進製程的晶片，就必須要有EUV光刻機！

全球中端光刻機市場，主要由ASML、尼康、佳能壟斷，ASML佔大頭！

上海微電子光刻機在技術水平上遠遠落後於阿斯麥，正在不斷追近尼康和佳能！

落後並不可怕，只要咱們不認慫，總有一天能夠追上去，甚至完成超越！

……

這個肯定是有的，接下來我會根據個人的瞭解，給大家簡單分析下，希望可以給大家提供幫助

1978年，1445所在GK-3光刻機的基礎上開發了GK-4光刻機，把加工圓片直徑從 50 毫米提高到 75 毫米。在同一年，中國科學院半導體所開始研製JK-1型半自動接近式光刻機，並在1981年研製成功兩臺樣機。1982年科學院109廠的KHA-75-1光刻機，這些光刻機在當時的水平均不低。1985 年，機電部45所研製出了分步光刻機樣機，通過技術鑑定，認為達到美國4800DSW的水平。

個人分析：從這些可以看出，當時中國在光刻機機領域已經開始在研發，但是苦於技術問題，大規模應用還存在很大得困難。

90年代，由於國內奉行對外貿易政策，很多企業把中心都放在了對外貿易上，拋棄了獨立自主，自力更生的指導方針，光刻機的研發基本處於停滯狀態。

2000年後，中國晶片進入了海歸創業和民企大發展的時代。大量的海歸企業家從國外帶來了先進的技術理念，促進了中國半導體行業的迅速發展。

2002年，上海微電子承擔了 " 十五 " 光刻機的專案。

2009年，上海微電子研發的先進封裝光刻機通過了出廠工藝測試，並正式簽訂了產品銷售合同。該光刻機具有“大視場、大焦深、高套刻精度、邊緣曝光”等技術特點，可滿足先進封裝I藝中8英寸及12英寸矽片級重新佈線凸點等厚膠工藝要求。

2016年，上海微電子已經可以生產110奈米和280奈米的光刻機。

2018年，上海微電子的90nm光刻機專案通過正式驗收。上海微電子600系列光刻機SSA600/20已經實現90nm解析度，這已經是目前中國產光刻機最先進的技術了。

個人分析：中國產先進封裝光刻機的研製成功與使用，標誌著中國在高階封裝關鍵裝置產品創新與開發中取得了巨大的進步，對提升中國積體電路製造裝備、工藝及材料技術的自主創新能力具有非常重要的意義。

中國電科

長春光機所

合肥芯碩半導體

先騰光電科技

總體來說，中國在光刻機領域的研製一直沒有停止過，不過受制於各種因素，研製的進度比較緩慢，近幾年來取得了較大的發展，但和世界先進水平還有較大差距。生產高階晶片使用的光刻機還是依賴於進口。相信不久的將來，我們是可以實現光刻機自主中國產化的。

我們的國家用算盤就能打出原子彈來，光刻機已經在研發的路上，只是太精密得裝置暫時沒有，由於美國的管控，導致中國的技術有些落後，能把胖五送上天，這個也不是大問題。

只要有專攻+投入+時間，發展那是沒有問題的。上世紀五十年代後期，中國在感光材料的發展也是從零開始…。到了八十年代，咱們不也是進入了深水區了嗎！無論是色彩的還原度、解像能力(顆粒度)、低灰霧等…，都有不錯的產品。如今只要加強鐳射微刻技術的完善，乃防串層塗抹材料奈米條件下的適用研究就行…

要知光刻機構件一二萬個零件，中國能生產百分之七十的零部件，舉國之力，完全可以自研自制。如果中國現在能製作部件達不到百分之六十，近三五年是造不出光刻機來。團隊沒有，現組也可以，我想專業人才應該不多，同類技術人才應該不缺吧！全國在顯微鏡下作業的人應該很多，把這些人組織起來攻關，很快就能突破，集思廣納，高手在民間。