曝光顯影蝕刻工藝主要分為以下六個步驟：

1、 曬膜 ：將玻璃或其他基材上塗覆得有封裝膠料，經過清潔後將蝕刻模板放於其上；

2、 曝光：使用曝光機把模板中的圖案曝光到封裝膠料上；

3、 顯影：將曝光後的封裝膠料浸入特定的顯影液中，使蝕刻模板中的圖案留在封裝膠料上；

4、 洗刻：將顯影後的封裝膠料浸入洗刻液中，洗刻液會腐蝕掉模板所曝光的部分，但模板上的圖案不受影響；

5、 清洗：將洗刻後的產品用特定清洗液清洗，使其去除殘留的顯影液和洗刻液；

6、 乾燥：將清洗後的產品用空氣吹乾，使其完成蝕刻技術的整個流程。

蝕刻的工藝流程是：

1. 檢驗

首先對加工工件進行質檢，提出不良品，提高良率；

2. 清潔、噴油

對工件材料進行靜電除塵之後將乾淨的工件全部噴塗感光油，為感光做好準備；

3. 感光顯影

將菲林試劑塗到工件上完成曝光，之後用顯影劑將曝光的地方保留，腐蝕掉未曝光部分形成蝕刻圖案；

4. 封油

封油就是對機器噴油中的盲區或者噴不到的位置進行人工補油，確保整個工件都被覆蓋掉。之後再進行烘乾；

5. 蝕刻

清洗、蝕刻是整個生產流程中最關鍵的一部，是將工件通過化學溶液的方法把經過爆光顯影後外露的部位腐蝕掉，形成設計圖案。之後清洗多餘的油漆和其他試劑；

6. 質檢

加工完成的工件要具備出貨條件還需要經過嚴格的質檢剔除不良品。