荷蘭的光刻機最小的刻線尺寸是幾十納米到幾百納米之間。光刻機是半導體製造過程中的關鍵設備，主要用於將芯片設計上的圖案轉移到硅片上。荷蘭擁有先進的半導體技術和製造能力，其光刻機涵蓋了多個廠商和型號，能夠實現不同尺寸的刻線。

通常情況下，光刻機的最小刻線尺寸取決於所使用的光刻膠和光刻機的分辨率。隨著技術的進步，荷蘭的光刻機的最小刻線尺寸還將不斷提昇。

5nm以下。

世界光刻機，目前根據不同工藝，可以分別做到 14 nm 和 5nm以下。 目前最高端的EUⅤ光刻機波長13.5nm,曝光精度14nm,釆用平面工藝,也就是14nm,釆用finfet工藝可達5nm以下。

荷蘭的光刻機最小是4納米。

euv光刻機是荷蘭阿斯麥爾公司生產的全球唯一高端光刻機，其生產的設備絕大多數被台積電和三星購得，英特爾有少量幾臺

是3納米

首先要說光刻機不能以大小區分，而是要以製程和光源波長等類型區分。目前全球最高端光刻機，也就是光刻機制程最小的，是荷蘭阿斯麥爾公司的euv13.5納米極紫外光光源光刻機。該光刻機目前可以制商業化量產造達到4納米工藝製程的芯片，3納米芯片也已經流片。