【12月22日訊】導語，相信大家都知道，在全球眾多光刻機裝置廠商中，唯獨荷蘭ASML能夠生產製造用於7nm、5nm以及3nm以下的EUV光刻機裝置，而對於日本尼康、佳能、中國上海微電子所生產的光刻機水平依舊維持在14nm及以上工藝，而目前上海微電子即將在明年交付28nm浸潤式光刻機，在詳細對比了ASML光刻機和國產光刻機裝置的差距以後，很多網友們都紛紛直言：“國產光刻機至少落後十年.....”

確實目前ASML公司所生產的頂級EUV光刻機裝置，並不是ASML一家廠商獨立生產出來，而是集合了全球最頂級的光學技術、精密儀器技術、裝置等等， 並且很多資源都是獨家供應ASML公司的資源，所以ASML公司才成為了全球唯一可以生產EUV光刻機的廠商，所以只要全球任何一家光刻機廠商，能夠整合ASML公司的技術、裝置資源，那麼也可以快速造出EUV光刻機，目前ASML公司所生產的EUV光刻機裝置，主要由德國TRUMPF公司提供整體的EUV光源系統方案（EUV光刻生產）、德國蔡司半導體提供的是EUV的控制技術方案（布拉格反射器用於收集、控制EUV光束）以及光刻機技術（絕大部分來自於ASML公司以及德國方面）；

在整個EUV光刻機裝置中，ASML公司的技術佔比也只能夠達到10%-15%左右，當然ASML公司之所以能夠獲得如此之多獨家供應資源，也是因為ASML公司還是很多供應商的股東，例如ASML公司先後入股了德國TRUMPF公司、德國蔡司半導體，同時很多晶片代工巨頭也入股了ASML公司，例如Intel、臺積電、三星等等，可以說ASML公司也是直接整合了上下游廠商，讓整個晶片供應鏈企業都圍繞ASML公司服務，保障了EUV光刻機裝置的全球獨家；

因為ASML公司不僅僅可以獲得全球最頂尖的資源，同時還可以在最後一步光刻機生產製造驗證過程上，得到臺積電、三星、Intel的大力支援，可以和晶片製造廠商們一起除錯EUV光刻機裝置；如果日本尼康、佳能、中國上海微電子也可以的得到相同的資源支援，一樣可以在不斷地除錯過程中將EUV光刻機造出來，並不需要所謂的10 年，甚至是20年，也不需要所謂ASML公司的光刻機圖紙。