光刻機是製造晶片的重要裝置，不過目前國產光刻機的製造工藝還比較落後，上海微電子是大陸唯一可以製造光刻機的產商，隨著市場競爭的加劇，上海微電子也在不斷加速技術研發，之前只能製造90nm的光刻機，如今，28nm的光刻機即將交付。

華為事件將成為國產半導體裝置高速發展的重要催化劑。雖“國產替代”一直在進行中，但此次事件將成為整個國產半導體產業的警示標，將進一步加強國產替代的必要性和發展速度。

EUV光刻機目前只有臺積電、三星電子、和英特爾有，雖然中芯公司也是加工晶片，但原先預定的ASML的7奈米光刻機由於受到限制，導致荷蘭遲遲不敢發貨，所以除了臺積電、三星和英特爾，沒有誰可以給華為加工7奈米晶片。

據瞭解，ASML與飛利浦分家之後，就專注於研發光刻技術，採用先進的德國機械工藝和世界級的蔡司鏡頭，再加上美國提供的光源使得ASML公司在光科技術方面飛速發展，幾乎到達了無人能敵的境地，因此即使出現同樣的廠商也會掩蓋在ASML的光芒之下。

ASML是目前全球唯一使用極紫外光EUV的光刻機廠商。極紫外線光刻機使用的是波長13.5奈米的光，而深紫外線光刻機的波長達到193奈米。

作為大陸唯一一家生產光刻機的上海微電子裝備有限公司現在是任重而道遠。

公開資料顯示，上海微電子裝備公司（SMEE）成立於2002年，主要致力於大規模工業生產的投影光刻機研發、泛半導體裝備、高階智慧裝備的開發、設計、製造、銷售及技術服務。公司產品可廣泛應用於IC製造與先進封裝、MEMS、TSV/3D、TFT-OLED等製造領域。

總體來看，國產光刻機還有很長的路要走，不過隨著大量研發費用和人才的投入，相信很快可以製造出效能一流的光刻機。