光刻機被譽為工業皇冠上的明珠，尤其是在矽基晶片領域，其光芒最為耀眼，儘管製造工藝迭代更新很快，可光刻裝置始終處於無可替代的地位。

老美之所以敢以修改晶片規則的代價針對華為，正是由於它手裡握著EUV光刻機這把“利器”，並妄圖憑此來遏制中國高科技的發展腳步。

為了實現晶片自主，突破光刻機這座“大山”，中科院等國內頂尖科研團隊決定跑步入場，併成立了專項攻關小組。

在這種情況下，能否研發出高階國產光刻機，可以說聚焦了無數國人希冀的目光。

然而，美國科學家卻表示，即便給我們EUV光刻機的圖紙，我們短時間內也難以造出。

事實也的確如此，雖然ASML是能夠量產EUV光刻機的唯一廠商，可90%以上元器件都需要進口，對我們而言，若想實現光刻自主，就需要先解決掉大約10萬個元器件的進口問題。

這是一道幾乎無解的難題。

不過需要強調的是，圍繞光刻裝置發展到今天的矽基晶片，其工藝已經逼近物理極限，也就是摩爾定律。以最先進的臺積電來看，5nm工藝已經十分成熟，據說3nm工藝也已完成流片，明年便可量產，但有關2nm、1nm工藝的晶片，卻從未有半點訊息。

臺積電並非不想在3nm工藝的基礎上再進一步，何況半導體領域的競爭如此激烈，其身後的三星時刻都準備著反超。之所以會停留在3nm工藝水平，是因為再往下即便是造得出來，良品率也難以保證，而且晶片上積體電路的驅動功能很可能面臨失效的局面，這樣的成本顯然超出了商業範疇，是任何企業都難以接受的。

尋找新型半導體材料或者新一代晶片，成了全球各大晶片企業的主要發展方向。

在華為等國產科技企業被老美斷供晶片之時，工程院士張鈸教授曾給出了這樣的觀點：我們需要選擇新燈塔、新航道。

與其一頭扎進“南牆”碰得頭破血流，倒不如好好看看“牆”的周圍有沒有別的道路。

科技的魅力在於創新，而非模仿與守舊。

在新航道上，近日國防科技大學傳出喜訊，引起了美科技界的一片譁然：“鑽研光刻機原來只是幌子，中國科學家在晶片產業上早有佈局”。

訊息顯示，國防科技大學已經研發出了一種新型的光量子晶片，徹底完成了全球範圍內量子理論技術到實踐應用的轉變。

量子晶片被譽為半導體驅動的終極形態，不僅傳輸效率快，而且有著安全盾的美稱，要知道老美構陷華為正是以矽基晶片裝置的安全為由，倘若量子晶片完成替代，就不會再有人信它的謊言。

綜合來看，量子晶片的效能超矽基晶片十倍有餘，更關鍵的是，國防科技大學在沒有光刻機的前提下便完成了研發，這意味著，我們完全可以繞開光刻機，將量子晶片作為未來的主攻方向。

可惜的是，量子晶片距離工藝完全成熟還有一段距離，雖已完成研發，但若想實現大規模量產商用，還需要成本的綜合計算與應用領域的廣泛測試。

量子晶片代表的是未來，要知道，我們之所以會在矽基晶片領域被“卡脖子”，就是由於沒有紮實的基礎技術，起步較晚的事實無法改變。慶幸的是，在量子領域，我們已經迎頭趕上，並實現反超。

相信隨著中國科學家們的努力和持續研發創新，我們一定能建立科技自主的“護城河”，在即將到來的量子時代完成華為的逆轉，改變此前一直由西方主導的全球晶片格局！