被“卡脖子”的EUV光刻機

在國內晶片行業，隨著米國規則的持續作用，逐漸暴露出了一些不容忽視的“卡脖子”問題。其中EUV光刻機就是最具代表性的例子，作為晶片製造過程中的核心裝置，光刻機被全球半導體市場公認為最重要的技術之一，而EUV光刻機則是目前最高階的光刻機產品。

可能很多人都有聽說過EUV光刻機，但是並不知道光刻機還有高階和低端之分，其實它們的主要差距就在於精度方面。高階光刻機往往能夠達到更高的精度水平，可以滿足先進製程晶片的生產要求；而低端光刻機只能用於成熟工藝晶片的製造過程，差距還是非常明顯的。

那麼用EUV光刻機能夠造出什麼層次的晶片呢？就目前的情況而言，EUV光刻機最高能實現5nm晶片的量產，臺積電和三星這兩大晶片代工廠，正是因為擁有足夠多的EUV光刻機，才早早地突破到了5nm工藝，領先了其它代工廠一大截。

而反觀我們國內大陸的晶片代工廠，則因為缺少EUV光刻機的支援，直到現在都還沒有成功量產7nm晶片。要知道，全球範圍內只有荷蘭的ASML公司能夠造出EUV光刻機，強如美國都不行，我們國內就算是想要花大價錢進口也得對方同意才行。

之前中芯國際曾向ASML提交了一臺EUV光刻機的訂單，並且連定金都付好了，但是後來卻由於種種原因，導致ASML無法準時交貨，最終只能不了了之。這是因為ASML的高階光刻機出口會受到一些國家的管制，我們國內根本無法自由進貨。

不難看出，EUV光刻機的缺失是限制國產晶片崛起的重要因素，如果我們國內的代工廠也擁有足夠的EUV光刻機，那麼中國晶片肯定不會是現在這個樣子。至於國產EUV光刻機什麼時候才會登場，估計還要等很多年的時間，不然的話ASML也不會口出狂言：就算公開圖紙，別的國家也造不出EUV光刻機！

連進口光刻膠也難買了

不過，好在近幾年國內加大了對半導體產業的投入力度，各種裝置也迎來了一些技術突破，國產光刻機雖然離ASML的產品還有一定的差距，但是一直在向前進步。然而讓人沒想到的是，EUV光刻機還沒解決，現在連進口光刻膠也難買了。

光刻膠雖然沒有光刻機那麼出名，但是其對於晶片產業而言，同樣有著非常重要的作用。據悉，一瓶四五公斤重的光刻膠，就可以生產出400萬顆晶片，如果缺少光刻膠供應，就算技術和裝置再先進也是白搭。

而且就如今的局面來看，國內外各大光刻膠廠商的訂單都排滿了，很多晶片代工廠和封測企業都買不到一瓶進口的光刻膠。要知道，此前都是光刻膠廠商尋求與晶片公司合作，而現在卻反過來了，足以證明光刻膠的短缺對半導體行業產生了深遠的影響。

其實我們國內也有很多光刻膠廠商，例如晶瑞股份和南大光電等等，但是現在它們都自顧不暇，難以滿足市場的需求。再加上受全球缺芯問題的影響，晶片的價格越來越高，光刻膠自然也變成了“香餑餑”，不知道什麼時候才能回到正常狀態。

寫在最後

綜上所述，除了EUV光刻機之外，高階光刻膠也是國內必須要攻克的一項關鍵技術，不然就算國產光刻機取代了ASML的產品，也沒有足夠的材料來生產晶片。希望國內能意識到這方面的重要性，繼續加大研發力度。