中企正式官宣

晶片製造是一項非常複雜的工作，每一個環節至少需要幾十道步驟，其中涉及的裝置，材料和技術等等，都不能出現一點紕漏。晶片製造所用的光刻機，塗抹晶片所用的光刻膠以及使用裝置製造晶片的製程技術等等，都要確保萬無一失。

到底哪一個最重要，答案是缺一不可。但是要想實現晶片生產，還需一步步解決各項製造上的問題。比如製造晶片初步環節時的光刻膠。

光刻膠是一種材料，一顆晶片需要嵌入很多層的積體電路，架構其一層層的電路。可是電晶體積體電路是容易受損的，為了保護晶片效能，會在表面塗抹光刻膠。

主要的作用在於保護，不同光刻膠對應不同工業積體電路晶片，越是複雜的高階晶片，則需要用上質量越好的光刻膠。一直以來，光刻膠產業都被日本掌握在手中，不過這一次中企巨頭正式官宣好訊息，事關光刻膠。

在晶瑞股份的2020年業績說明會上，晶瑞股份董事長吳天舒表示道，公司已經對KrF（248nm深紫外）光刻膠完成了中試，解析度達到了0.25~0.13μm的技術要求，並且建立起了中試示範線。

中企巨頭晶瑞股份官宣了旗下光刻膠產品的進展，這對國產光刻膠產業來說，是有重大意義的。另外晶瑞股份I/G線光刻膠產品已經能夠用於8英寸車規級晶片的製造工作。

晶片製造難題，或得到解決？

晶瑞股份是國內領先的光刻膠巨頭，有深厚的經驗。值得一提的是，在高階光刻膠領域的探索方面，晶瑞股份也專門購得了一臺光刻機。今年1月份中下旬晶瑞股份釋出公告稱，經過多方協作，成功購得ASML XT 1900 Gi 型光刻機。

這臺光刻機最高可用於解析度達28nm的高階光刻膠，一旦成功研製出28nm光刻膠，將意味著國產光刻膠產業正在崛起。未來我國掌握先機的高階晶片製造工藝，在光刻膠重要材料上的問題，就能得到供應。

如此一來，晶片製造所面臨的材料難題，或將得到解決。畢竟光刻膠也是晶片製造的重要步驟。而光刻機來了，想必進入到晶瑞股份的生產線也有一段日子。

不過需要注意的是，晶瑞股份購買的這臺光刻機是二手的，而且並非用於生產晶片，而是用作研究目的。旨在透過該光刻機實現對高階光刻膠產品的研發，技術攻克。

國產光刻膠的崛起

晶片製造所需的材料問題，我們已經有了相應的佈局和進步。在國產光刻膠領域，不只是晶瑞股份，包括南大光電的ArF光刻機也通過了客戶驗證，達到良率要求的水準。

而且除了晶瑞股份購得光刻機之外，上海新陽購買的ASML-1400光刻機也完成交付，對193nmArF幹法光刻膠的研發有重要意義。

晶瑞股份、南大光電、上海新陽等國內領先的光刻膠企業巨頭們，都有了不錯的國產光刻膠製造水準。後續需要做的就是在現有的基礎上做得更好，把國產光刻膠逐步提升到高階水準。

國產光刻膠的崛起已經開始了，等高階光刻膠研發到位，晶片製造剩餘的步驟環節，也必將一一攻破。

總結

光刻機來了，已經進入到晶瑞股份的生產線。不管是光刻機還是光刻膠，都是中國未來努力的方向。我們並非一竅不通，在光刻機領域有中科院的入局，清華大學的光源進步，上海微電子的整機裝備。

在光刻膠晶片材料方面，晶瑞股份，上海新陽都曾購得過光刻機用於先進光刻膠研發。或許還需要更多的時間，只待有朝一日徹底解決晶片卡脖子問題。

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