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近日,有媒體表示,臺積電、三星兩家先進的代工廠,放任客戶稱他們的芯片使用了4nm工藝,但其實還是5nm,這其實是工藝造假。

同樣的,聯發科天璣9000也是5nm工藝的,但看到三星與高通推出了4nm,於是臺積電與聯發科,也宣稱自己天璣9000,也是4nm了。

而根據專業人士的分析,不管是驍龍8Gen1,還是天璣9000系列,所謂的4nm工藝,在物理結構上,與這兩家公司的5nm工藝並沒有什麼不同之處,純粹就是將5nm,說成是4nm,玩數字遊戲。

事實上,在幾年前,就有知名芯片廠商表示,臺積電、三星均在在工藝製程上玩營銷遊戲,他們喜歡將數字說得越小越好,但實際並不是真正的XXnm工藝。

以前,所謂的工藝製程,與晶體管密度是保持著嚴格的相關性的。工藝提升,晶體管密度就會提升,相同的工藝下,即使是不同的廠商,其晶體管密度基本也不會相差太多的。

但到了10nm後,臺積電、三星的工藝節點,與晶體管密度就開始脫鉤了,不再具備嚴格的相關性了。

如上圖所示,這是某機構根據臺積電、三星、intel的技術資料,列出來的製程工藝與晶體管密度的對比圖。

我們發現三大廠商,在不同的工藝下,其晶體管密度是截然不同的,水份最高的是三星,圖中可以看出,intel的7nm,從晶體管密度來看,與臺積電的5nm、三星的3nm是相同的。

另外三星在10nm、7nm,其晶體管密度與臺積電是一致的,但後來就變了,密度越來越低,比臺積電低一代,比intel低2代了。

對此不知道大家怎麼看?現在工藝提升越來越難,每提升一代需要的時間越來越長,這也導致晶圓廠們,開始搞虛假動作了。

搞得intel現在都沒辦法,在工藝上都不得不與三星、臺積電“同流合汙”,改變了自己的命名規則,成為了虛假工藝中的一員,比如原本的英特爾10nm工藝被重新命名為了Intel 7,對應臺積電的7nm工藝,而原本的7nm,叫做intel 4,對應臺積電4nm工藝……

如今,製程工藝節點的命名,完全失去了應有的意義……誰也不知道真正的工藝節點是啥了,晶圓廠說啥就是啥。

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