芯科技訊息（文／羅伊），臺積電先進製程拓展又有新進度，公司宣佈，領先業界匯入極紫外光（EUV）微影技術的7奈米強效版（N7+）製程已協助客戶產品大量進入市場；6納米制程技術（N6）也將於2020年第1季試產、年底前量產。受惠利多訊息，臺積電美國存託憑證（ADR）、8日臺股價雙雙再創歷史新高價，盤中市值逾7.39萬億新臺幣改寫新高。

臺積電7日晚間釋出先進製程新進展，臺積電表示，N7+基於7納米制程技術（N7）上，併為6奈米和更先進製程奠定良好基礎。N7 +量產速度為史上量產速度最快的製程之一，於2019年第2季開始量產，在N7量產超過1年時間的情況下，N7+良率與N7已相當接近。

此外，N7 +同時提升了整體效能，邏輯密度比N7提高15-20%，並同時降低功耗，成為業界下一波產品中更受歡迎的製程選擇。臺積電也快速布建產能以滿足多個客戶對於N7 +的需求。臺積電補充說，EUV裝置已達成熟生產的實力，機臺也達大量生產目標，日常運作輸出功率均大於250瓦。

值得注意的是，臺積電強調，受惠N7+的成功經驗，N6預計將於2020年第1季進入試產，並在年底前步入量產。隨EUV微影技術進一步應用，N6的邏輯密度將比N7提高18%，且因N6與N7在設計法則上完全相容，亦可大幅縮短客戶產品上市時間。

業務開發副總經理張曉強表示，AI和5G的應用為晶片設計開啟更多可能，臺積電客戶充滿創新及領先的設計理念，通過公司技術和製造能力均得以實現；他還強調，臺積電在EUV微影技術上的成功，顯示不僅能夠具體落實客戶的領先設計，更因卓越的製造能力，能使其大量生產。臺積電宣示7奈米N7+製程已協助客戶產品大量進入市場，對比競爭對手遲未釋出先進製程大量量產近況，更凸顯其在7奈米的業界領導地位。

（校對/holly）