其實，實際情況是什麼？據估計，許多人應該再次失望。首先讓我談談這次的具體情況。

小編曾表示，這一突破是可喜的，但是對於高階晶片製造而言，這一突破確實不是“突破”，因為我們在這種光刻機上的突破等同於槍械。首次出現，與冷武器相比，可以看到的進步是概念和思想的進步，也是理論上的突破，但是當槍支首次出現時，冷武器的力量遠不及此，但發展空間巨大，但還有很長的路要走！

因此，必須指出的是，當今，隨著光刻機的發展，很多人可以第一次想到高階晶片光刻機。實際上，這一說法有很多誤解。突破，高階晶片製造還有很長的路要走。其原因在於，光刻機不僅用於晶片領域。

除了晶片領域外，還有遙感成像、生化痕跡測量、特殊表面材料等領域將要應用到光刻機上，而且各個行業之間的光刻機差異很大，而這次突破性的光刻機將其用於上述大口徑薄膜鏡、超導奈米線單光子探測器、 Cerenkov輻射裝置燈的光刻製造，並將其與晶片光刻製造進行比較。仍然有很大的不同，這就是人們熱衷於突破冷水的光刻機的主要原因。看來我們確實需要保持安靜，冷靜，看一下光刻機的發展以及成熟的態度。 我們還有很長的路要走！

當然，這並不意味著我們的突破與晶片光刻技術無關。最重要的是提供一個好的解決方案，以解決晶片光刻中的光衍射極限。相信也可以。我們的晶片光刻技術帶來了巨大的突破。