中芯在剛上任的副董事長蔣尚義的牽頭下，將與 ASML 進行獲取 EUV 裝置的談判，這對於中芯的先進製程發展至關重要。雖然就目前來講，DUV 的確能夠用到 7 奈米，但 5 奈米以下，還是要靠 EUV 才行。就算不量產，若沒有 EUV 來進行理論驗證，中國半導體晶片就只能在 7 奈米階段徘徊。

不過目前來看，ASML 仍是有意向中國售出更先進的曝光機（光刻機）裝置的，但礙於國際形勢與美國法規限制，所以多有考量。而蔣尚義卻似乎有一定的信心能談成，相當值得關注。這本非僅憑個人交情就能談妥的事，但只要雙方能坐下來談，的確有可能尋求繞過法規的出貨辦法。

尤其現在川普已經下臺，拜登一般被認為較沒有那麼激進，若 ASML 真找到管道出貨，美國方面反應可能沒那麼快。如今甚至有傳言指出，當初武漢弘芯的那臺核心裝置真的是 EUV，只是官方不願意證實而已，當然這樣的傳言，可信度並不高，不過仍彰顯了蔣尚義在曝光機供應鏈上有很深厚的人脈。

值得注意的是，浸潤式微影技術也是蔣尚義與張忠謀一手大力推動的，其發明人前臺積電研發副總林本堅曾表示，若非蔣爸在背後支援，並說服 ASML 這想法是對的，否則已花了大筆預算在乾式曝光機上的業者不會那麼容易接受。

總而言之，中芯找蔣尚義回國，主要原因在於因應美國製裁，應非空穴來風。但可能要徹底的化整為零，才有可能避過法規，若真的能夠透過蔣尚義廣泛的人脈獲取足夠的零元件，並且說服 ASML 協助在中國境內進行組裝，也並非完全不可能。當然這難度也是極端的高，不亞於製造太空梭，但如今中國願意為此投入的資源，也不可小覷，後續值得觀察。