晶片製造擁有七大關鍵環節，光刻便是一個十分重要的步驟，直接定義電晶體的尺寸。但是，該環節所需的光刻機，卻卡住了我國半導體領域的脖子。

在中美貿易摩擦加劇、新冠肺炎全球大流行的情況下，光刻機，這塊壓在國人心頭上的大石更顯沉重。目前，荷蘭ASML、尼康與佳能佔據了全球光刻機市場，將近99%的市場份額。

但好在面對這一境況，我國仍有不少企業在努力，點燃國產光刻機產業鏈的星星之火。

上海微電子便是其中的領頭企業，它是我國唯一一家研發、生產、銷售高階光刻機的廠商，其已經佔據了中國大陸市場80%的市場份額。

上海微電子成立於2002年，七年磨一劍，其在2007年成功突破365nm光波廠的DUV光刻技術，可用作生產90nm製程晶片。

2009年時，上海微電子的首臺先機封裝光刻機產品SSB500/10A成功交付，邁出了重要的一步。2016年時，上海微電子SSX600系列掃描投影光刻機量產，其中一款擁有90nm解析度。

對於MCU、電源管理晶片等產品的生產來說，上海微電子的光刻機已經可以勝任。

多年來，上海微電子不斷積累技術。到2020年3月份時，上海微電子直接持有的專利與專利申請量達3200多項，數量可觀。同時，上海微電子還建設智慧財產權聯盟，共享聯盟成員智慧財產權。

不過，雖然近年來上海微電子不斷進步，但是其仍無法突破先進光刻機量產。在光刻機霸主ASML的背後，是歐美高精尖科技的支援，上海微電子想要突破，可謂是“地獄級”的難度。

因此在很長時間裡，我國量產光刻機其在90nm製程，難以繼續前進。不過在今、明兩年，上海微電子似乎將有新的突破。

據方正釋出的一份研報顯示，今年12月份，我國“02專項”光刻機二期專案將驗收193nm ArF浸沒式DUV光刻機，令人矚目。

同時，還有訊息稱，明年上海微電子將突破28nm晶片製程用光刻機技術壁壘。若此訊息為真，那對我國光刻機行業來說，又是一次跨越式的進步，離先進國產晶片的生產也將更進一步。

不過，此訊息的真實性並未證實，有些遺憾。

目前，美國對中國科技企業頻繁出手，就在近日美國又將中國77家科技企業列入了“實體清單”。面對這樣的狀況，我國更應該認識到掌握核心技術的重要性。

希望國產光刻機能早日迎來曙光。