現在造臺光刻機比原子彈還難，有很多人來問憑什麼是歐洲這個小國，荷蘭造出了頂級的光刻機，一個字賭，荷蘭asml剛成立時是真的寒顫，成立之初只有31個員工，這31個員工就在飛利浦豪華玻璃大樓底下的木板平房裡辦公，跟飛利浦比一起來asml跟要飯的差不多。

苟延殘喘十來年之後，命運之神突然眷顧了這家公司。當時的光刻機市場出現了一個前所未有的瓶頸。65奈米的晶片製造工藝遲遲無法突破。原因是什麼呢？做晶片這件事兒就是在矽上用刀雕花刻字。鐳射就是那個刻字的“刀”。光源的波長數小了，刀更精緻了，能加工的晶片自然而然也就更加精細了。而全世界已經卡在193奈米很久了，寸步難行。

當時，日本雙雄選擇的技術路線是，繼續走穩健道路，採用波長更短的157奈米的鐳射光源。asml則決定破釜沉舟，壓上全部身價。押注一種更為激進的技術，那就是浸潤式光刻機。當時來自中國臺灣省的林本堅向阿斯麥提出，只要在光刻膠上加一層水，水對193奈米紫外光的折射率為1.44，193奈米不就一下變成134奈米了嗎？

於是雙方經過三年攻關，造出人類第一臺浸潤式光刻機。光刻機的市場有那麼大，這一賭，堵進了阿斯麥過去20多年的老底，賭出了阿斯麥未來20多年的底氣。現在晶片廠商用的高階光刻機，90%都是荷蘭阿斯麥生產的，臺積電與三星每年為此搶破了頭，人生又何嘗不是呢，縱使前路漫漫縱使難於登天，我們都要堅強的走下去。