早在2019年，日本透過禁止光刻膠對韓國出口，在全球半導體市場扔下了一枚震撼彈，至此光刻膠的重要性走入了中國人的視野，很多人由此才知道：作為一個全球最大的半導體晶片消費國，中國的光刻膠技術遠遠落後世界先進水平。

光刻膠屬於液體膠狀物，這種液體對於光照非常敏感。在晶片製作中，光刻膠非常重要，將它塗抹在矽片表面，透過曝光等一系列光刻工序後，原本設計在掩膜版上的圖新，就能轉移到基片表面。

根據權威機構SEMI，統計的資料顯示，在2018年半導體材料市場中，光刻機佔據了5.24%的份額，是半導體材料中，耗費量最多的材料之一。

光刻膠作為晶片製作的核心耗材，對於晶圓的品質有著直接影響，並且對於晶片節點推進，也發揮了重要作用，因此在我們看來不起眼的光刻膠，在晶片製作中影響頗為深遠。

因為半導體發源於歐美，早些年又在日韓生根花芽，因此中國缺乏整套的半導體產業鏈體系，所以在全球光刻膠大廠中，幾乎沒有中國企業的身影，主要的巨頭是JSR、merck、TOK和陶氏化學等企業，產品涵蓋 I－line、KrF、ArF、ArFi、EUV 光刻膠等中高階產品。

反觀中國，中國大陸IC光刻膠市場的規模僅為20億元左右，在全球市場中佔比是15%，適用於 6 英寸矽片的 G/I 線光刻膠的自給率約為 20%，適用於 8 英寸矽片的 KrF 光刻膠的自給率不足 5%，而適用於 12 寸矽片的 ArF 光刻膠完全依靠進口。

作為晶片中的重要材料，臺積電等晶片製造廠商，在晶片製造過程中，都需要使用到光刻膠。現如今，日本光刻膠供應緊張，勢必會導致今年晶片緊缺的情況更加嚴重。

眾所周知，光刻機技術要求非常高，尤其在EUV光刻機上，全球只有ASML一家，能夠生產。光刻機門檻高，作為其中使用到的核心材料，光刻膠技術壁壘也相對較高。

在全球光刻膠市場中，日企佔據了大部分市場份額，尤其是在上游市場，日企壟斷現象最為明顯。根據資料統計，日企佔據光刻膠市場80%份額，像日本信越、TOK等企業，都是光刻膠領域的龍頭企業。也正因如此，在經歷這次地震後，日本企業對光刻膠市場，造成了嚴重供斷影響。

當前，在上游光刻膠領域，中國佔據的份額較低，技術和日企相比還存在一定差距。不過，在光刻膠替代浪潮下，已經有不少光刻膠本土企業，加大研發力度，力求在國內市場找回國產光刻膠的地位。

而在下游PCB光刻膠市場中，國產企業已經佔據50%的份額，而在LCD光刻膠領域上，國產化率也得到明顯提升，現在已經達到5%。在上游半導體光刻機領域方面，國產光刻膠還難以達到技術水準，仍需不斷突破技術。想要達到晶片從設計到成品製作，完全實現國產化，中國必須打破日企多年對光刻膠的壟斷，推動國產替代腳步發展。

國產替代的未來發展潛力巨大

受地震影響，日本光刻膠供應緊張，恰好推動了國產替代的腳步。當前，中國已經湧現出大批優秀的光刻膠企業，例如晶瑞股份、上海新陽等，這些企業完全能夠滿足中國對於光刻膠的使用需求。

2020年，晶瑞股份傳來了令人振奮的好訊息。根據晶瑞股份釋出的公告顯示，該公司的KrF光刻膠目前已經在測試階段，測試階段一過，這款光刻膠就能量產投入使用。

同年，晶銳股份還耗費1102.5萬美元，採購了一款ASML的二手光刻機，目前這款光刻機已經到貨。有了這款光刻機裝置，晶瑞股份的光刻膠如虎添翼。

就在不久前，上市公司南大光電突破首隻國產ArF光刻膠，要知道ArF光刻膠適用於12寸矽片的，應用於7nm晶片工藝，屬於最高階的技術，目前這項技術正在等待國家驗收，未來勢必會提供給中芯國際使用，減少對日本的依賴，同時也降低成本。

而過去，ArF光刻膠則是100%依賴進口。也正是因為此，南大光電去年市值一下子飆升了89億，而這家公司的員工不過269人。

但是，因為光刻膠由樹脂、溶劑、感光劑、新增劑四種成分組成，其中樹脂基本上都從美、日、韓進口; 感光劑從日本進口為主，國內光刻膠產業鏈佈局不完整。

而且對比可以發現，上海新陽、南大光電和晶瑞股份，這些國內光刻膠企業的員工，規模也只有500人甚至不超過500人，但是JSR、信越化學和TOK等相關巨頭，員工規模都接近萬人，可見技術實力和資金之雄厚。

從上面三家光刻膠國產代表企業中，不難看出中國企業正在不斷朝高階領域發展，相信在這些企業的帶領下，中國高階光刻膠領域實現突破，是早晚的事情。