三氟化氮（NF3），在微電子工業中是一種優良的等離子蝕刻氣體，隨著奈米技術和電子工業的飛速發展，其需求量也在日益增加。高純三氟化氮（NF3）屬於電子特氣，毒性較強，人體直接接觸會有很大的危險，這時，便需要電子特氣櫃這樣的特種氣體裝置來保證氣體的純度和使用安全。
特氣系統工程
什麼是三氟化氮？三氟化氮（nitrogen trifluoride）化學式NF₃，在常溫下是一種無色、無臭、性質穩定的氣體，是一種強氧化劑。NF3是低毒性物質，但是它能強烈刺激眼睛、面板和呼吸道粘膜，腐蝕組織，研究表明：大鼠吸入1000ppm·l小時未見死亡，但出現高鐵血紅蛋白血癥，當吸入10000ppm·l小時有死亡，在2500ppm時吸毒後4小時死亡。要知道在微電子行業刻蝕工藝中，所使用的NF3是儲存在氣體鋼瓶中的高純度壓縮氣體。
三氟化氮的應用領域：高純三氟化氮（NF3）具有非常優異的蝕刻速率和選擇性（對氧化矽和矽），它在被蝕刻物表面不留任何殘留物，同時是非常良好的清洗劑。三氟化氮主要用於化學氣相澱積（CVD）裝置的清洗，同時在晶片製造、高能鐳射器方面得到了大量的運用。
三氟化氮可以單獨或與其它氣體組合，用作等離子體工藝的蝕刻氣體，例如，NF3、NF3/Ar、NF3/He用於矽化合物MoSi2的蝕刻；NF3/CCl4、NF3/HCl既用於MoSi2的蝕刻，也用於NbSi2的蝕刻。
氣體特種裝置特氣櫃
電子特氣櫃的功能作用：電子特氣櫃是專為易燃易爆、毒性、腐蝕性等危險性氣體供應而設計的特種氣體系統裝置，按類別可分為全自動、半自動和手動操作，有包括自動吹掃、自動切換以及緊急情況下的自動安全切斷（當設定報警訊號被觸發時）等基本功能。
其中全自動電子特氣櫃採用PLC為控制主體，以觸控式螢幕進行系統顯示和設定，配合合理設計佈局的高純閥件及氣體監測洩漏報警系統等，可保持氣體的安全穩定及高純度，保證實驗或生產正常進行。
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