不用求購EUV光刻機？
EUV光刻機是全球目前最高階的光刻機，只有荷蘭的ASML企業能夠生產，因此高階所以非常的走俏、緊缺。很多晶片廠商紛紛向ASML訂購了這臺高階的光刻機，包括國內的中芯國際。
然而求購早在之前就已經付諸行動了，而ASML的這臺EUV光刻機卻姍姍來遲，到目前還未有任何的動靜，很顯然這不是正常的延期交貨了。
然而晶片製程想要更進一步，就需要依託這臺EUV光刻機。我國的中芯國際目前能夠量產14nm晶片，相比目前市場上最先進的5nm晶片還存在很大的距離。
為了能夠在晶片製程上有所突破，中芯國際也推出了N+1以及N+2的技術，即便如此其效能也只能接近7nm晶片。可以說如果沒有了光刻機，那麼晶片製程的工藝將陷入瓶頸。
想要突破晶片現有的製程工藝非常的難，想要生產7nm以下的晶片製程，始終繞不開EUV光刻機，這也是為什麼EUV光刻機出現供不應求的局面。
臺積電也早已經知道光刻機的重要性，早前就有訊息表示臺積電預計在明年，採購EUV光刻機的數量將會超過50臺。可想而知EUV光刻機在晶片領域充當了多麼重要的角色。
因此當晶片以及光刻機受阻的情況下，自研成為了唯一的突破口，華為表示將深耕半導體領域，中科院也表示將入局光刻機領域。然而卻有訊息表明，想要突破晶片目前的處境，無需求購EUV光刻機。
彎道超車的機會來了現階段最為先進的晶片製程就是5nm，並且臺積電也已經在3nm、以及2nm製程工藝有所突破，不過晶片製程工藝想要再前進已經不太可能，業內人士紛紛表明矽基晶片已經觸碰到了天花板了。
摩爾定律已經達到了極限，矽基晶片最多到達1nm晶片製程。因此人們也在不斷尋求新的突破口，以此來解決晶片的這個問題。
因此石墨烯這個新型的材料剛才被人們注意到了，要知道石墨烯這個材料應用在晶體管制作的時候，與矽基晶片相比的話，在同一個水平，石墨烯的效能要高於矽基晶片。
或許石墨烯晶片將成為一個突破口，就在近期，中科院在傳來好訊息，關於晶片的捷報，不用求購EUV光刻機，彎道超車的機會來了。
中科院在這個技術上已經有了重大的突破，就是完成了8寸石墨烯晶圓的量產，這已然是上升了一個臺階，不僅如此在相關的技術我國已經搶先擁有了智慧財產權，這也說明了在石墨烯這個領域，我國是完全實現了自主研發。
值得注意的是，矽基晶片和碳基晶片是有所不同的，傳統的矽基晶片如果沒有EUV光刻機很難突破7nm以下的工藝製程，而碳基晶片卻能夠繞開光刻機。
因此說實現彎道超車的機會來了，不用求購EUV光刻機。如今想要引進高階的EUV光刻機並不容易，而自研的光刻機自然也需要費一番周折，光刻機蘊含了多少的技術和裝置，想要自研光刻機不僅僅需要時間，還需要資金、科研團隊。而且還是一個未知數，因此石墨烯承載了希望。
寫在最後中科院已經實現了8寸石墨烯晶圓的量產，在這個領域國內已經領先了，一旦我國研發出石墨烯晶片，那麼真的是彎道超車，在矽基晶片我國還無法實現自給自足，不僅要解決晶片製程的問題，也要解決光刻機的問題。
而石墨烯作為新型的材料首先效能要比矽基晶片來得好，並且也能夠解決摩爾定律到達極限的局面，而如果我國搶先實現了這個技術，研發出了這個新型的晶片，那麼在晶片領域將成功翻盤，完美逆襲。