光刻機這個話題在科技領域可以說熱度一直不減，人們對於光刻機給予的關注度也是非常高的，而之所以這麼受到網友的關心就是因為中國在這個領域的缺失，高階光刻機可以說是眼下突破晶片製造瓶頸的最關鍵裝置，沒有光刻機晶片製造只能是紙上談兵，正如華為擁有全球領先的晶片設計公司海思半導體，如今卻因為美國的打壓制裁而不能將晶片製造出來，美國對華為的強硬打壓之下，中國科技界也是紛紛將科研力量往晶片製造領域傾斜，開啟了全面的晶片製造攻堅的旅程之中。

在這種環境之下，可想而知的是華為的處境會越來越尷尬和被動，畢竟華為餘承東曾經表示只專注於晶片設計對於華為來說是一次慘痛的教訓，華為也是痛定思痛準備走晶片IDM模式，勢必要將晶片製造掌握在自己手中，但是短期內突破晶片製造瓶頸談何容易，華為創始人任正非也是頻繁出訪中國高校，為下一步的科研計劃積蓄人才儲備。

華為也掀起了整個中國的科研浪潮，華為的舉動讓國人熱血澎湃，這一次的科技博弈華為只有勝利一條路可走，面對華為的遭遇，中科院也是高調宣佈，將光刻機等關鍵裝置納入到下一步的科研計劃之中，這無疑是堅定了中國要往晶片製造領域進軍的決心，也是給華為注入了一劑強心劑。

同時在美國對中國科技的強大技術打壓之下，微軟創始人比爾蓋茨直言，面對如此強大的技術封鎖之下，美國不會有收到任何好的效果，反而會激發中國科技攻堅的浪潮，進一步刺激中國晶片製造行業的興起，最後的結果就是中國晶片製造崛起後在晶片代工領域將不再受到美國條令的制約。

近日中國科學院在晶片領域又有了新的進展，由中科院牽頭自主研發以及製造的8nm石墨烯晶圓終於成功了，這也標誌著中國在石墨烯晶圓領域再次取得了不小的突破，要知道石墨烯材料一直是很多國家的科學家在極力的研究其應用的可能性，試圖將石墨烯材料應用到各個領域來提高效能與穩定性。

8nm石墨烯晶圓的成功研發為何如此重要呢？畢竟在短期內無法攻破光刻機這樣關鍵裝置之下，我們完全可以透過迂迴策略在新型晶片可替代材料上進行研發，國內晶片製造的研發熱情確實要感謝美國對中國科技的打壓力度，而比爾蓋茨的話確實應驗成真了，中國在晶片領域已經開始全面的爆發，未來投入的人力、物力和財力也絕不會比現在少。

新型可替代材料這一研究課題其實華為也一直在研究當中，畢竟這或許是可以快速彌補因缺少高階光刻機裝置而導致的效能瓶頸，也能為後面的光刻機的研發獲得短暫喘息的機會，所以進軍光刻機並非只是幌子，沒有任何技術是攻克不了的難關，相信中國科研的力量，更相信中國人的智慧，中國加油！