陸媒報導，中芯國際將針對EUV裝置與艾司摩爾談判。

新浪科技報導，中芯國際一直無法從艾司摩爾取得EUV裝置，儘管艾司摩爾在法律上不受某些約束條件的影響，但仍存在顧慮。

EUV（極紫外光）利用波長非常短的光，在矽片上形成數十億個微小結構，構成一個晶片，與舊型裝置相較，EUV裝置可以生產更小、更快、更強大的晶片。

據瞭解，中芯國際打算利用EUV裝置，來生產7奈米以下製程技術的晶片產品。

中芯國際執行長梁孟松15日在辭職宣告中透露，已開發完成7奈米技術，明年4月進入風險量產；至於更先進的5奈米和3奈米制程，只要EUV光刻機到來，就可進入全面開發。換句話說，有了EUV機臺，中芯國際也能進行3奈米晶片的量產。