在晶片製造過程中，光刻機是不可或缺的核心裝置，蝕刻機雖然重要程度不及光刻機，但對於晶片蝕刻環節而言卻相當重要。

除了光刻機、蝕刻機等硬體裝置外，材料的重要性在晶片製造環節同樣不容忽視。例如光刻膠，這類又稱為光致抗蝕劑的混合液體是晶片光刻流程中高精尖的核心材料，地位絲毫不亞於光刻機。

根據產業鏈調研資料，在積體電路製造工藝中，光刻工藝的成本佔比高達35%，耗費的時間佔比達到40%-60%。

由此可見，無論是光刻機還是光刻膠，都會對技術有非常高的要求。這也導致，光刻膠具備市場集中度高、客戶壁壘以及技術壁壘高的特點，所以市場新秀的數量較少、誕生頻率較低。

資料顯示，光刻膠由感光樹脂、增感劑和溶劑三種主要成分構成，對光敏感。此外，光刻膠所屬產業鏈的覆蓋範圍也相當廣泛，由於光刻膠是微電子領域微細圖形加工核心上游材料，所以光刻膠佔據了電子材料的制高點。

目前，在這個至高點掌握話語權的基本都是在材料領域優勢明顯的日本企業。

例如東京應化、新越化學、日本合成橡膠（JSR）、住友化學、富士膠片等等，都是全球半導體光刻膠行業的龍頭。

除了這些日本企業之外，美國陶氏化學也能躋身行業前列。資料顯示，上述龍頭在半導體光刻膠細分領域的總份額高達85%。而中國在這方面幾乎沒有話語權。

但根據最新訊息，中國企業在光刻膠製造方面已經成功打破日本的技術封鎖，該企業正是南大光電。

12月17日，南大光電在盤後釋出公告，公司的控股子公司寧波南大光電自主研發的ArF光刻膠產品，成功於近日透過客戶的使用認證。這意味著，國產ArF光刻膠取得了關鍵性突破。

筆者瞭解到，南大光電成立於2000，在2016年時，全球半導體用光刻膠及配套材料市場規模大增，為了讓中國在光刻膠上不再受制於人，南大光電才開始進入光刻膠的製造領域。

短短數年，南大光電突破了重重瓶頸，成功研發出ArF光刻膠，改變了中國在ArF光刻膠上完全依賴進口的被動局面，大幅提升了我國在g線/i線光刻膠以及KrF光刻膠上的自給率。

據悉，“ArF光刻膠產品開發和產業化”，是寧波南大光電承接的國家“02專項”的一個重點攻關專案。專案總投資達6億元，如今寧波南大光電已經取得階段性成果，當專案完全達產後，年銷售額有望達到10億元。

對於光刻膠和南大光電，你還了解哪些？