近期華為釋出了 HarmonyOS 2.0 手機開發者 Beta 版，是HarmonyOS 的配套 IDE。與此同時，作為手機開發者 Beta 版本的配套 IDE，HUAWEI DevEco Studio 2.0 Beta3 也針對手機同步升級了相關特性功能。

HUAWEI DevEco Studio 是華為打造的一款面向1+8+N全場景、泛終端的一站式整合開發環境。9月份 HDC 釋出的 2.0 Beta1 版本已具備工程模板建立、程式碼編輯、編譯構建、遠端模擬模擬除錯、釋出等端到端的 HarmonyOS 應用開發服務，此次12月份升級的 Beta3 版本新增了一系列新特性。

1. 新增 9 個手機工程模板

HUAWEI DevEco Studio 2.0 Beta3 在原有 Car、TV、Wearable、Lite Wearable、Smart Vision 裝置工程模板庫中新增了支援 Phone 和 Tablet 的工程模板，共計 24 個常用模板，其中 9 個是針對手機的常用場景，包括 News、Shopping、List、Tab 等工程模板。

開發者可以透過預置的工程模板，對常見應用型別快速上手，避免從零開始，從而降低應用開發工作量和門檻。

2. 新增 Java UI 框架佈局介面實時預覽

HUAWEI DevEco Studio 2.0 提供的預覽器功能採用了執行態預覽技術，支援在多臺裝置上進行預覽，而且支援一個介面佈局檔案在不同裝置上呈現效果。11月份 DevEco Studio 2.0 Beta2 版本已支援 JS UI 框架的佈局實時預覽，此次為配套手機應用開發，Beta3 新增支援 Java UI 框架佈局預覽。

3. 新增手機遠端模擬器

HUAWEI DevEco Studio 2.0 Beta3 在已有的車機、智慧屏、智慧穿戴遠端模擬器基礎上，新增了手機和平板兩種裝置的遠端模擬器。

4. 上線分散式除錯

所謂分散式除錯功能或跨端除錯功能，就是當你的工程中包含多個裝置模組，例如 A 裝置和 B 裝置，在 A 裝置模組新增斷點，B 裝置模組在未新增任何斷點情況下，除錯過程中也可直接無縫從 A 裝置模組函式直接"Step Into"B 裝置的關聯函式。

目前 Beta3 版本的分散式除錯僅支援真機，預計到下一個 Beta 版本支援遠端模擬器。

此外，分散式除錯還支援 JS/Java 跨語言混合除錯，針對 JS FA 呼叫 Java PA 的除錯場景，開發者可以透過 JS FA 呼叫 Java FA 的程式碼行或者 Java PA 相關程式碼處進入 Java 斷點，快速發現和解決 JS FA 呼叫 Java PA 相關問題。

5. 增強 Mac 版本功能

HarmonyOS 官網11月份上線的 DevEco Studio 2.0 Beta2 就出現了 Mac 版本，支援 macOS 10.13/10.14/10.15，但功能和 Windows 版本相比略為簡單。此次釋出的 Beta3 對 Mac 版本的功能進行了增強。

幾個關鍵增強特性包括：支援 Phone 的工程模板建立、支援 JS 應用的跨裝置預覽、支援跨裝置分散式應用除錯功能、支援 Phone 遠端模擬器以及支援 JS/Java 語言的混合功能。

詳情檢視：https://developer.harmonyos.com/cn/home/