從2018年末荷蘭ASML光刻機公司工廠的一場火災開始，中芯國際的光刻機進口之路開始波折起伏，其花費近8.2億購買的一臺EUV深紫外光刻機，是否會延遲交付我們不得而知。但經過一整年時間，荷蘭出口EVU光刻機到中國的許可證由於到期，到現在也遲遲沒有續期，導致EVU光刻機交付進一步推遲。而中芯國際製造7奈米晶片所用的關鍵裝置，EVU光刻機則是重中之重，可以說沒有這臺EVU光刻機，中國整個7奈米半導體的研發程序將會受阻。難道中國趕超美韓高精度、先進半導體晶片的腳步將會止步於此嗎？

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中芯國際14奈米晶片已經量產下一代製程工藝也在研發當中

根據中芯國際對外公開的財報顯示，國內首條14奈米晶片生產線在上海已投入使用，中國14奈米級晶片已經突破量產，而能耗下降20% 、效能提高10%的12奈米級晶片訂單已經開始匯入，各種現象表示中芯國際已經開始了下一代晶片半導體的研發程序。在7奈米以上的光刻機，ASML公司一直向中國正常供應。目前ASML公司在中國的光刻機市場正在快速崛起，其佔全球的市場份額約19%，超過美國16%的份額，可以說中國的光刻機市場是ASML公司不可忽視的，這些因素都關係著雙方的未來。

不同奈米級的光刻機決定了晶片的製造精度其功能也受此影響

一根細絲千分之一的機內執行誤差，數萬個高精度部件，上千萬行計算機程式碼共同構成了一個執行系統，這就是光刻機——被業內人士譽為半導體行業CROWN上的明珠。晶片製造中最為關鍵的一步就是光刻，其具體功能就是將設計師研發的晶片線路和功能區，通過光刻機的高精度執行，刻在一片圓形矽晶片面上，這些線路就是設計師所規劃的晶片執行指令。所以不同奈米級的光刻機決定了不同精度晶片的製造。中國想要攻克7奈米級晶片，必須首先研發出7奈米級的EVU光刻機。

中國國內規模龐大的晶片生產依賴高精度的EUV光刻機

而目前中國擁有的光刻機精度僅能達到45奈米，就連28奈米級我們也正在研發當中，而EVU高精度光刻機的研發更上難上加難。荷蘭ASML公司早在20年前就啟動了EVU光刻技術的研發工作，而直到去年全球首款7奈米EVU光刻機才正式投入商用。屬於第五代光刻機的EVU深紫外光刻機，放眼全球僅荷蘭一家掌握製造工藝。目前中國晶片的製造已經逐漸走在各國前列，已經有超1.5萬億的投資落在12英寸的晶圓生產上，不僅如此中國高精度晶片的研發同樣處於全球前列，所以對光刻機的需求也是迫在眉睫。

中國近日提前成功攻克了2奈米晶片研發製造的關鍵技術

就在全球處於7奈米晶片的進一步研發製造時，近日中科院成功攻克了2奈米級晶片所需的關鍵技術——垂直奈米環柵電晶體，為今後中國2奈米級半導體的研發提前打下了基礎，堪稱全球首創。從去年臺積電攻克3奈米環柵電晶體開始，中國首次在高精度晶片的技術研發上走在世界前列。2奈米晶片的製造生產以及將於2024年投入，而此次2奈米關鍵技術的攻克破冰，稱得上是意義重大。如果ASML公司的EVU光刻機能成功交付，相信中國的晶片研發製造定能走得更遠。