相信在過去的這幾年時間裡，對於中國科技的發展歷程，很多人都是知根知底的，雖然說中國的科技發展程度非常迅速，但是在缺少深厚底蘊積累的情況之下，依舊是暴露了不少問題，最大的問題就是對於一些尖端科技技術的缺失。

就像是去年弄得沸沸揚揚的華為晶片斷供事件，其中暴露的本質就是晶片核心技術的不足，而且不只是晶片這一方面，目前還有很多核心技術，中國沒有掌握，三大核心技術被美限制，科技戰即將打響，學者：請求科研人才回國。

新的2021年開始，必定會是不平凡的一年，去年因為某些特殊因素，導致全球的半導體行業以及各種科技行業均受到了影響，新的一年是那些科技企業突圍的一年，可以說是科技戰已經在準備打響了，但是目前中國還已經有三大主要核心技術被美國限制，就是半導體、光刻機以及作業系統。

這三項核心技術幾乎都被美國所壟斷，中國在半導體行業其實有所成就，像是中芯國際在短短的幾年時間裡，從28奈米工藝做到了7奈米工藝，光刻機也是由上海微電子所進行研發的28奈米工藝光刻機，作業系統則是由華為鴻蒙系統率先發起入圍。

但目前中國在這三個核心技術的實力依舊不夠美國“看”，有學者分析，中國在科技方面的體系沒有美國那麼成熟，而且底蘊遠遠不足，在科研人才方面更是缺失，很多中國頂尖的科研人才，最後都去到美國能幫的國家進行科研。