說起來中國產晶片製造中的弱點、短板，相信很多人都會想到光刻機的問題，尤其是在EUV極紫外光刻機方面，我們就是空白，就因為我們不能有世界領先的光刻機，也讓人覺得，我們在生產製造高階晶片方面，也面臨著巨大的困難，就更不要說在高製程工藝上，巨大的製程工藝技術壁壘難題的突破了。

除此之外，我們同樣面臨在晶片製造過程中的一些特殊材料短缺問題。就像這一段時間日本打壓南韓半導體產業的時候，光刻膠首當其衝，原因就是在於應用於半導體制造的高階光刻膠同樣存在極高的技術壁壘，而高階光刻膠的生產製造，全世界能夠做到這個的沒有幾家，市場基本上都是被日美所把控，比如日本的TOK、JSR，美國的陶氏化學等企業。

至於中國產半導體光刻膠的製造方面，現在我們僅在6英寸的g線/i線光刻膠方面有一定的中國產能力，而在8英寸矽片的KrF光刻膠以及12英寸矽片的ArF光刻膠方面，嚴重依賴進口，也導致了日美在半導體高階光刻膠領域的壟斷局面。

不過值得關注的是，現在晶瑞股份、南大光電在ArF光刻膠上都已經有了重大突破，順利完成了專案研發，通通過了客戶的驗證，這也意味著中國產ArF光刻膠成功做到了對西方技術封鎖的突破，打破了國外廠商的壟斷。