目前無論是手機處理器還是電腦處理器，7nm製程已經是最先進的工藝之一了，基於7nm製程的處理器也已經大規模量產，獲得了不錯的評價。而高通也已經表示將會在下一代的X60基帶中採用最新的5nm製程，可以說是首款搭載5nm的產品。預計從2021年開始各大旗艦手機都將搭載5nm製程工藝的處理器，那麼5nm之後會是多少製程呢？

作為製造處理器當中最核心的一個步驟，光刻顯然是決定處理器好壞的重要節點，作為光刻機行業的王牌，ASML表示目前正在研發最新的光刻機，稱可以進行最小3nm製程的光刻，又將處理器的製程往前大邁進了一步。目前ASML使用的先進光刻機為NXE:3400B和改進型的NXE：3400C，其中NXE：3400C採用的額是模組化設計，維護時間從傳統的48小時大幅縮短至10小時。而ASML的下一代光刻機將會被稱之為EXE：5000，這臺光刻機是由ASML和蔡司與比利時微電子中心共同研發。

和目前所使用的光刻機相比，EXE：5000的最大特點便是採用3nm製程工藝進行晶片的光刻，而作為ASML 3nm的最大客戶，包括臺積電以及三星均在晶片路線圖中指出了今後將會使用的3nm製造工藝，顯然想要讓該製程落地需要的是更為先進的光刻機。ASML表示將會在2021年推出EXE：5000的樣機，同時在2023年左右開始量產，預計大家想要看到基於3nm製程的產品需要等到2024年了。